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cite fixes in simulation chapter & more updates on results (d_v)
authorhackbard <hackbard>
Fri, 30 Sep 2005 12:36:36 +0000 (12:36 +0000)
committerhackbard <hackbard>
Fri, 30 Sep 2005 12:36:36 +0000 (12:36 +0000)
nlsop/diplom/ergebnisse.tex
nlsop/diplom/simulation.tex

index 8c49a8af840aa739100a01bd46342491a0c0a8cb..da28041fa387d54ea3ba48bafc803f0d4b38082f 100644 (file)
@@ -122,7 +122,7 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis
     Hier ist die mittlere Kohlenstoffkonzentration hoch genug, um bei der hier herrschenden nuklearen Bremskraft etwas Amorphes zu erhalten.
 
     Abbildung \ref{img:diff_influence_ls} zeigt die Linescans der fouriertransformierten Cross-Sections aus Abbildung \ref{img:diff_influence}.
-    Abbildung \ref{img:diff_influencec_ls} c) geh"ort zur Simulation ohne Diffusion in $z$-Richtung.
+    Abbildung \ref{img:diff_influence_ls} c) geh"ort zur Simulation ohne Diffusion in $z$-Richtung.
     Der Linescan zeigt kein Maximum ausser bei der Ortsfrequenz Null.
     Dies steht im Einklang mit dem in Abbildung \ref{img:diff_influence} c) gezeigten Querschnitt.
     Es haben sich keine lamellare Ausscheidungen gebildet.
@@ -138,22 +138,22 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis
     Tats"achlich findet man Lamellen haupts"achlich in den zwei entsprechenden Abst"anden vor.
 
     \begin{figure}[h]
-    \includegraphics[width=12cm]{low_to_high_dv.eps}
+    \includegraphics[width=15cm]{low_to_high_dv.eps}
     \caption{Simulationsergebnisse f"ur a) $d_v=10$, b) $d_v=100$, c) $d_v=1000$, d) $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$}
     \label{img:dv_influence}
     \end{figure}
     \begin{figure}[h]
-    \includegraphics[width=12cm]{ls_dv_cmp.eps}
+    \includegraphics[width=13cm]{ls_dv_cmp.eps}
     \caption{Linescan der fouriertransformierten Cross-Sections von Simulationen mit $d_v=10$ und $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$}
     \label{img:dv_ls}
     \end{figure}
     Neben der Diffusionsrate $d_r$ beschreibt der Simulationparameter $d_v$ den Diffusionsprozess.
-    Dieser gibt an wie oft der Diffusionsschritt ausgef"uhrt wird.
+    Der gibt an, wie oft der Diffusionsschritt ausgef"uhrt wird (alle $d_v$ Schritte), und hat den Zweck, die Rechenzeit des Programms durch Reduzierung des besonders zeitaufw"andigen Diffusionsschrittes kurz zu halten.
     In Abbildung \ref{img:dv_influence} sind Simulationsergebnisse f"ur verschiedene $d_v$ abgebildet.
     Erstaunlichwerweise scheint dieser Parameter keinen allzu grossen Einfluss auf das Ergebnis zu haben.
-    Das liegt daran, dass selbst die Anzahl von $10 \times 10^{3}$ Schritten im Vergleich zur Anzahl der W"urfel im Target von $50 \times 50 \times 100 = 25 \times 10^{4}$ sehr viel keiner ist.
-    Damit ist es sehr wahrscheinlich, dass vor einem erneuten Sto"s in einem Volumen, ein Diffusionsprozess mit den Nachbarn stattfindet.
-    Die Diffusion als essentieller Mechanismus f"ur den Selbstorganisationsprozess ist somit erf"ullt.
+    Das liegt daran, dass selbst die Anzahl von $10^4$ Schritten im Vergleich zur Anzahl der W"urfel im Target von $50 \times 50 \times 100 = 25 \times 10^{4}$ sehr viel keiner ist.
+    Damit ist es sehr wahrscheinlich, dass vor einem erneuten Treffer ein Volumen per Diffusionsprozess mit den Nachbarn Kohlenstoff austauscht.
+    Die Diffusion als essentieller Mechanismus f"ur den Selbstorganisationsprozess findet somit statt.
 
     Man erkennt eine minimale Abnahme des lamellaren Tiefenbereichs von ungef"ahr $10 nm$.
     Ausserdem kann man eine kleine Zunahme der Periodenl"ange der Lamellen mit zunehmendem $d_v$ erahnen.
index d766a68aba49f64caf50b8eb1ca3b33668a6aad8..3d1eb164113bfd1ba590c55c5c98285122373221 100644 (file)
@@ -78,7 +78,7 @@ Das Kapitel schlie"st mit dem Test der verwendeten Zufallszahlen.
     \end{equation}
     angenommen.
     Jedoch muss die direkte Nachbarschaft des Volumens ber"ucksichtigt werden.
-    Da es sich bei den betrachteten Temperaturen allein um ionenstrahlinduzierte, epitaktische Rekristallisation handelt \cite{unklar} und einschr"ankend hier nur der Temperaturbereich bis $250 \, ^{\circ} \mathrm{C}$ behandelt wird, in dem keine merkliche ionenstrahlinduzierte Nukleation innerhalb amorpher Bereiche auftritt \cite{unklar}, sollte f"ur die Rekristallisation die Strukturinformation einer kristallinen Nachbarschaft notwendig sein.
+    Da es sich bei den betrachteten Temperaturen allein um ionenstrahlinduzierte, epitaktische Rekristallisation handelt und einschr"ankend hier nur der Temperaturbereich bis $250 \, ^{\circ} \mathrm{C}$ behandelt wird, in dem keine merkliche ionenstrahlinduzierte Nukleation innerhalb amorpher Bereiche auftritt \cite{basic_phys_proc}, sollte f"ur die Rekristallisation die Strukturinformation einer kristallinen Nachbarschaft notwendig sein.
     Mit einer zunehmenden Anzahl von amorphen Nachbarn sollte die Rekristallisationswahrscheinlichkeit also sukzessive abnehmen und ganz verschwinden, wenn kein einziger kristalliner Nachbar vorhanden ist.
     Mit der im Abschnitt \ref{subsection:unterteilung} beschriebenen Unterteilung hat ein Volumen genau sechs Grenzfl"achen, von denen die Rekristallisationsfront ausgehen kann.
     Damit kann man \eqref{eq:p_ac_local} neu schreiben und man erh"alt:
@@ -170,7 +170,7 @@ Das Kapitel schlie"st mit dem Test der verwendeten Zufallszahlen.
     Wie zu erwarten entspricht sie ungef"ahr dem Verlauf der in Abbildung \ref{img:trim_coll} gezeigten Energieabgabe.
     Daher wird dieses Profil f"ur {\em NLSOP} zur Verteilung der Kollisionen im Taregt verwendet.
 
-    Ein implantiertes Ion und dadurch entstandene Recoils verursachen durchschnittlich eine Anzahl von $1088$ Kollisionen, bis alle Teilchen bis auf Energien unterhalb der Verlagerungsenergie f"ur $Si$ Atome von $15 eV$ \cite{unknown} abgesunken sind.
+    Ein implantiertes Ion und dadurch entstandene Recoils verursachen durchschnittlich eine Anzahl von $1088$ Kollisionen, bis alle Teilchen bis auf Energien unterhalb der Verlagerungsenergie f"ur $Si$ Atome von $15 eV$ \cite{ziegler_biersack_littmark} abgesunken sind.
     Die Zahl der getroffenen W"urfel, also Volumina in denen ein Ion mindestens eine Kollision verursacht, ist sehr viel geringer.
     Das Auswertungsprogramm {\em parse\_trim\_collision} z"ahlt durchschnittlich $75$ getroffene Volumina pro implantiertem Ion.
     Genauer gesagt z"ahlt das Programm die Anzahl der Ebenen mit $3 nm$ H"ohe in denen Kollisionen verursacht werden.