X-Git-Url: https://hackdaworld.org/gitweb/?a=blobdiff_plain;f=nlsop%2Fdiplom%2Fergebnisse.tex;h=b5ac3ac1ffacddb33f4b441691fca31caecf4f1f;hb=6962dba946f5efc53cc3c57fc39487c9d3a67440;hp=ecf2220e49a3ae5a4353ea8ece1fea7be0e1b2f9;hpb=2be1ef6dfc399c3f24a2eba9e98b4ed2c862a305;p=lectures%2Flatex.git diff --git a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex index ecf2220..b5ac3ac 100644 --- a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex +++ b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex @@ -1,10 +1,40 @@ \chapter{Ergebnisse} \label{chapter:ergebnisse} +Im Folgenden sollen die Ergebnisse der Simulation diskutiert werden. +Dabei werden Simulationsergebnisse mit experimentell erfassten Ergebnissen aus \cite{maik_da} verglichen. + +Weiterhin soll der in Kapitel \ref{chapter:modell} vorgestellte Bildungsmechanismus der amorphen $SiC_x$-Phasen in $Si$ verifiziert werden. +Hierbei wird vorallem der Einfluss einzelner Simulationsparameter, wie Diffusion und St"arke der Druckspannungen, auf den Selbstorganisationsprozess untersucht. + +Unter der Annahme der Richtigkeit des Modells und seiner Umsetzung k"onnen sehr leicht Aussagen "uber die Struktur und Zusammensetzung an jedem beliebigen Ort des Targets w"ahrend des Ordnungsprozesses gemacht werden. +Diese Information ist experimentell sehr schwer zug"anglich. + +Zun"achst werden die Ergebnisse der Simulationen bis $300 nm$ Tiefe vorgestellt. +Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich diskutiert. + \section{Simulation bis $300 nm$ Tiefe} + Die erste Version der Simulation behandelt den Tiefenbereich bis $300 nm$. + Wie in Abschnitt \ref{section:sim_tiefenbereich} beschrieben, kann das Implantationsprofil und die nukleare Bremskraft in diesem Bereich linear gen"ahert werden. + Es besteht kein Zusammenhang zwischen Anzahl der Durchl"aufe und der implantierten Dosis. + In jedem Durchlauf wird nur ein Sto"sprozess, der zur Amorphisierung beziehungsweise Rekristallisation eines Targetvolumens f"uhren kann betrachtet. + Diffusion des Kohlenstoffs von kristallinen in amorphe Gebiete findet statt. + Sputtereffekte k"onnen wegen fehlender Information "uber Kohlenstoffgehalt und die amorph/kristalline Struktur in tieferen Ebenen nicht beachtet werden. + + \subsection{Erste Simulationsdurchl"aufe} + + In den ersten Simulationen wurde zun"achst das Abbruchkriterium f"ur den Einflussbereich der Druckspannungen der amorphen Gebiete auf die kristalline $Si$-Matrix untersucht. + Ein Abbruchkriterium ist zum einem wegen der Behandlung eines in $x-y$-Richtung unendlich ausgedehnten Festk"orpers, realisiert durch periodische Randbedingungen, und zum anderen wegen schnellerer Berechnung der Druckspannungen n"otig. + Eine Erh"ohung des Einflussbereichs von $4$ auf $6$ Volumen zeigt eine gr"ossere Menge an amorphen Gebieten, die lamellare Ordnung der Ausscheidungen steigt jedoch nicht an. + Aus den oben genannten Gr"unden wurde f"ur alle weiteren Simulationen ein Einflussbereich von $5$ Volumen gew"ahlt. + + EDIT: Variation von $p_s$ bringt nicht viel, man brauch hohe Schrittzahl.\\ + \subsection{Vergleich von Simulationsergebnis und TEM-Aufnahme} + + \subsection{Notwendigkeit der Diffusion} \subsection{Einfluss der Druckspannungen}