X-Git-Url: https://hackdaworld.org/gitweb/?a=blobdiff_plain;f=nlsop%2Fdiplom%2Fergebnisse.tex;h=f1e29a0bbac8cf47c7689c074d57bdd2a4b4a3a6;hb=f2c50468db0c9dab2f4ee3981ed278f8bab9443d;hp=bbf15548ecc63aea9f5030c887cda08f7b3fccb6;hpb=b139af50865e37b3d95ad927a6e47de8204ab349;p=lectures%2Flatex.git diff --git a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex index bbf1554..f1e29a0 100644 --- a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex +++ b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex @@ -1 +1,39 @@ \chapter{Ergebnisse} +\label{chapter:ergebnisse} + +Im Folgenden sollen die Ergebnisse der Simulation diskutiert werden. +Dabei werden Simulationsergebnisse mit experimentell erfassten Ergebnissen aus \cite{maik_da} verglichen. + +Weiterhin soll der in Kapitel \ref{chapter:modell} vorgestellte Bildungsmechanismus der amorphen $SiC_x$-Phasen in $Si$ verifiziert werden. +Hierbei wird vorallem der Einfluss einzelner Simulationsparameter, wie Diffusion und St"arke der Druckspannungen, auf den Selbstorganisationsprozess untersucht. + +Unter der Annahme der Richtigkeit des Modells und seiner Umsetzung k"onnen sehr leicht Aussagen "uber die Struktur und Zusammensetzung an jedem beliebigen Ort des Targets w"ahrend des Ordnungsprozesses gemacht werden. +Diese Information ist experimentell sehr schwer zug"anglich. + +Zun"achst werden die Ergebnisse der Simulationen bis $300 nm$ Tiefe vorgestellt. +Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich diskutiert. + + \section{Simulation bis $300 nm$ Tiefe} + + + + \subsection{Erste Simulationsdurchl"aufe} + + \subsection{Vergleich von Simulationsergebnis und TEM-Aufnahme} + + \subsection{Notwendigkeit der Diffusion} + + \subsection{Einfluss der Druckspannungen} + + \subsection{Verteilung des Kohlenstoffs im Target} + + \section{Simulation "uber den gesamten Implantationsbereich} + + \subsection{Reproduzierbarkeit der Dosisentwicklung} + + \subsection{Variation der Simulationsparameter} + + \subsection{Kohlenstoffverteilung} + + \subsection{Variation der Ion-Target-Kombination} +