finished substoichiometric c in si section, started conversion mechanism section
[lectures/latex.git] / bibdb / bibdb.bib
index ebcc267..076bf0e 100644 (file)
   author =       "A. R. Bean and R. C. Newman",
 }
 
+@Article{durand99,
+  author =       "F. Durand and J. Duby",
+  affiliation =  "EPM-Madylam, CNRS and INP Grenoble, France",
+  title =        "Carbon solubility in solid and liquid silicon—{A}
+                 review with reference to eutectic equilibrium",
+  journal =      "Journal of Phase Equilibria",
+  publisher =    "Springer New York",
+  ISSN =         "1054-9714",
+  keyword =      "Chemistry and Materials Science",
+  pages =        "61--63",
+  volume =       "20",
+  issue =        "1",
+  URL =          "http://dx.doi.org/10.1361/105497199770335956",
+  note =         "10.1361/105497199770335956",
+  year =         "1999",
+  notes =        "better c solubility limit in silicon",
+}
+
 @Article{watkins76,
   title =        "{EPR} Observation of the Isolated Interstitial Carbon
                  Atom in Silicon",
   notes =        "c diffusion due to si self-interstitials",
 }
 
+@Article{fukami90,
+  author =       "Akira Fukami and Ken-ichi Shoji and Takahiro Nagano
+                 and Cary Y. Yang",
+  collaboration = "",
+  title =        "Characterization of SiGe/Si heterostructures formed by
+                 Ge[sup + ] and {C}[sup + ] implantation",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1990",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "57",
+  number =       "22",
+  pages =        "2345--2347",
+  keywords =     "HETEROJUNCTIONS; ION IMPLANTATION; HETEROSTRUCTURES;
+                 FABRICATION; PN JUNCTIONS; LEAKAGE CURRENT; GERMANIUM
+                 SILICIDES; SILICON; ELECTRICAL PROPERTIES; SOLIDPHASE
+                 EPITAXY; CARBON IONS; GERMANIUM IONS",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/57/2345/1",
+  doi =          "10.1063/1.103888",
+}
+
 @Article{strane93,
   author =       "J. W. Strane and H. J. Stein and S. R. Lee and B. L.
                  Doyle and S. T. Picraux and J. W. Mayer",
                  quasi-direct one",
 }
 
-@Conference{powell93,
+@Article{eberl92,
+  author =       "K. Eberl and S. S. Iyer and S. Zollner and J. C. Tsang
+                 and F. K. LeGoues",
+  collaboration = "",
+  title =        "Growth and strain compensation effects in the ternary
+                 Si[sub 1 - x - y]Ge[sub x]{C}[sub y] alloy system",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1992",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "60",
+  number =       "24",
+  pages =        "3033--3035",
+  keywords =     "SILICON ALLOYS; GERMANIUM ALLOYS; CARBON ALLOYS;
+                 TERNARY ALLOYS; SEMICONDUCTOR ALLOYS; MOLECULAR BEAM
+                 EPITAXY; INTERNAL STRAINS; TEMPERATURE EFFECTS; CRYSTAL
+                 STRUCTURE; LATTICE PARAMETERS; XRAY DIFFRACTION; PHASE
+                 STUDIES",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/60/3033/1",
+  doi =          "10.1063/1.106774",
+}
+
+@Article{powell93,
   author =       "A. R. Powell and K. Eberl and F. E. LeGoues and B. A.
                  Ek and S. S. Iyer",
   collaboration = "",
   notes =        "substitutional c in si by mbe",
 }
 
+@Article{powell93_2,
+  title =        "Si[sub 1-x-y]Ge[sub x]{C}[sub y] growth and properties
+                 of the ternary system",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "127",
+  number =       "1-4",
+  pages =        "425--429",
+  year =         "1993",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(93)90653-E",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46J3RF2-8H/2/27fc231f28e4dc0a3b4770e5cf03257e",
+  author =       "A. R. Powell and K. Eberl and B. A. Ek and S. S.
+                 Iyer",
+}
+
+@Article{osten94,
+  author =       "H. J. Osten",
+  title =        "Modification of Growth Modes in Lattice-Mismatched
+                 Epitaxial Systems: Si/Ge",
+  journal =      "physica status solidi (a)",
+  volume =       "145",
+  number =       "2",
+  publisher =    "WILEY-VCH Verlag",
+  ISSN =         "1521-396X",
+  URL =          "http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450203",
+  doi =          "10.1002/pssa.2211450203",
+  pages =        "235--245",
+  year =         "1994",
+}
+
+@Article{dietrich94,
+  title =        "Lattice distortion in a strain-compensated
+                 $Si_{1-x-y}$$Ge_{x}$${C}_{y}$ layer on silicon",
+  author =       "B. Dietrich and H. J. Osten and H. R{\"u}cker and M.
+                 Methfessel and P. Zaumseil",
+  journal =      "Phys. Rev. B",
+  volume =       "49",
+  number =       "24",
+  pages =        "17185--17190",
+  numpages =     "5",
+  year =         "1994",
+  month =        jun,
+  doi =          "10.1103/PhysRevB.49.17185",
+  publisher =    "American Physical Society",
+}
+
+@Article{osten94_2,
+  author =       "H. J. Osten and E. Bugiel and P. Zaumseil",
+  collaboration = "",
+  title =        "Growth of an inverse tetragonal distorted SiGe layer
+                 on Si(001) by adding small amounts of carbon",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1994",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "64",
+  number =       "25",
+  pages =        "3440--3442",
+  keywords =     "SILICON ALLOYS; GERMANIUM ALLOYS; FILM GROWTH; CARBON
+                 ALLOYS; TERNARY ALLOYS; MOLECULAR BEAM EPITAXY; TEM;
+                 XRD; LATTICE PARAMETERS; EPITAXIAL LAYERS; TETRAGONAL
+                 LATTICES",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/64/3440/1",
+  doi =          "10.1063/1.111235",
+  notes =        "inversely strained / distorted heterostructure",
+}
+
+@Article{iyer92,
+  author =       "S. S. Iyer and K. Eberl and M. S. Goorsky and F. K.
+                 LeGoues and J. C. Tsang and F. Cardone",
+  collaboration = "",
+  title =        "Synthesis of Si[sub 1 - y]{C}[sub y] alloys by
+                 molecular beam epitaxy",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1992",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "60",
+  number =       "3",
+  pages =        "356--358",
+  keywords =     "SILICON ALLOYS; CARBON ALLOYS; BINARY ALLOYS;
+                 SEMICONDUCTOR ALLOYS; SUPERLATTICES; MOLECULAR BEAM
+                 EPITAXY; CHEMICAL COMPOSITION; TEMPERATURE EFFECTS;
+                 FILM GROWTH; MICROSTRUCTURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/60/356/1",
+  doi =          "10.1063/1.106655",
+}
+
 @Article{osten99,
   author =       "H. J. Osten and J. Griesche and S. Scalese",
   collaboration = "",
   notes =        "enhance of electron mobility in strained si",
 }
 
+@Article{kissinger94,
+  author =       "W. Kissinger and M. Weidner and H. J. Osten and M.
+                 Eichler",
+  collaboration = "",
+  title =        "Optical transitions in strained Si[sub 1 - y]{C}[sub
+                 y] layers on Si(001)",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1994",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "65",
+  number =       "26",
+  pages =        "3356--3358",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; INTERNAL STRAINS; EPITAXIAL LAYERS;
+                 CHEMICAL COMPOSITION; ELLIPSOMETRY; REFLECTION
+                 SPECTROSCOPY; ELECTROOPTICAL EFFECTS; BAND STRUCTURE;
+                 ENERGY LEVELS; ENERGYLEVEL TRANSITIONS",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/65/3356/1",
+  doi =          "10.1063/1.112390",
+  notes =        "strained si influence on optical properties",
+}
+
+@Article{osten96,
+  author =       "H. J. Osten and Myeongcheol Kim and K. Pressel and P.
+                 Zaumseil",
+  collaboration = "",
+  title =        "Substitutional versus interstitial carbon
+                 incorporation during pseudomorphic growth of Si[sub 1 -
+                 y]{C}[sub y] on Si(001)",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1996",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "80",
+  number =       "12",
+  pages =        "6711--6715",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; CRYSTAL DEFECTS; FILM GROWTH;
+                 MOLECULAR BEAM EPITAXY; INTERSTITIALS; SUBSTITUTION;
+                 XRD; STRAINS",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/80/6711/1",
+  doi =          "10.1063/1.363797",
+  notes =        "mbe substitutional vs interstitial c incorporation",
+}
+
 @Article{osten97,
   author =       "H. J. Osten and P. Gaworzewski",
   collaboration = "",