corrected text of accepted pub
[lectures/latex.git] / bibdb / bibdb.bib
index e5abf0d..a79bb67 100644 (file)
@@ -5,7 +5,7 @@
 @Article{schroedinger26,
   author =       "E. Schrödinger",
   title =        "Quantisierung als Eigenwertproblem",
-  journal =      "Annalen der Physik",
+  journal =      "Ann. Phys. (Leipzig)",
   volume =       "384",
   number =       "4",
   publisher =    "WILEY-VCH Verlag",
@@ -21,7 +21,7 @@
   affiliation =  "Institut d. Universität f. theor. Physik Leipzig",
   title =        "Über die Quantenmechanik der Elektronen in
                  Kristallgittern",
-  journal =      "Zeitschrift für Physik A Hadrons and Nuclei",
+  journal =      "Z. Phys.",
   publisher =    "Springer Berlin / Heidelberg",
   ISSN =         "0939-7922",
   keyword =      "Physics and Astronomy",
@@ -58,7 +58,7 @@
 @Article{erhart04,
   title =        "The role of thermostats in modeling vapor phase
                  condensation of silicon nanoparticles",
-  journal =      "Applied Surface Science",
+  journal =      "Appl. Surf. Sci.",
   volume =       "226",
   number =       "1-3",
   pages =        "12--18",
   title =        "Synthesis of nano-sized Si{C} precipitates in Si by
                  simultaneous dual-beam implantation of {C}+ and Si+
                  ions",
-  journal =      "Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.",
+  journal =      "Appl. Phys. A",
   volume =       "76",
   pages =        "827--835",
   month =        mar,
 @Article{skorupa96,
   title =        "Carbon-mediated effects in silicon and in
                  silicon-related materials",
-  journal =      "Materials Chemistry and Physics",
+  journal =      "Mater. Chem. Phys.",
   volume =       "44",
   number =       "2",
   pages =        "101--143",
   author =       "Henri Moissan",
   title =        "Nouvelles recherches sur la météorité de Cañon
                  Diablo",
-  journal =      "Comptes rendus de l'Académie des Sciences",
+  journal =      "C. R. Acad. Sci.",
   volume =       "139",
   pages =        "773--786",
   year =         "1904",
   author =       "Valeri F. Tsvetkov and R. C. Glass and D. Henshall and
                  Calvin H. Carter Jr. and D. Asbury",
   title =        "Si{C} Seeded Boule Growth",
-  journal =      "Materials Science Forum",
+  journal =      "Mater. Sci. Forum",
   volume =       "264-268",
   pages =        "3--8",
   year =         "1998",
 @Article{bean70,
   title =        "Low temperature electron irradiation of silicon
                  containing carbon",
-  journal =      "Solid State Communications",
+  journal =      "Solid State Commun.",
   volume =       "8",
   number =       "3",
   pages =        "175--177",
   doi =          "doi:10.1016/j.nimb.2006.12.118",
   publisher =    "ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM,
                  NETHERLANDS",
+  abstract =     "Periodically arranged, selforganised, nanometric,
+                 amorphous precipitates have been observed after
+                 high-fluence ion implantations into solids for a number
+                 of ion/target combinations at certain implantation
+                 conditions. A model describing the ordering process
+                 based on compressive stress exerted by the amorphous
+                 inclusions as a result of the density change upon
+                 amorphisation is introduced. A Monte Carlo simulation
+                 code, which focuses on high-fluence carbon
+                 implantations into silicon, is able to reproduce
+                 experimentally observed nanolamella distributions as
+                 well as the formation of continuous amorphous layers.
+                 By means of simulation, the selforganisation process
+                 becomes traceable and detailed information about the
+                 compositional and structural state during the ordering
+                 process is obtained. Based on simulation results, a
+                 recipe is proposed for producing broad distributions of
+                 ordered lamellar structures.",
 }
 
 @Article{zirkelbach2006,
   doi =          "doi:10.1016/j.nimb.2005.08.162",
   publisher =    "ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM,
                  NETHERLANDS",
+  abstract =     "High-dose ion implantation of materials that undergo
+                 drastic density change upon amorphization at certain
+                 implantation conditions results in periodically
+                 arranged, self-organized, nanometric configurations of
+                 the amorphous phase. A simple model explaining the
+                 phenomenon is introduced and implemented in a
+                 Monte-Carlo simulation code. Through simulation
+                 conditions for observing lamellar precipitates are
+                 specified and additional information about the
+                 compositional and structural state during the ordering
+                 process is gained.",
 }
 
 @Article{zirkelbach2005,
   doi =          "doi:10.1016/j.commatsci.2004.12.016",
   publisher =    "ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, 1000 AE AMSTERDAM,
                  NETHERLANDS",
+  abstract =     "Ion irradiation of materials, which undergo a drastic
+                 density change upon amorphization have been shown to
+                 exhibit selforganized, nanometric structures of the
+                 amorphous phase in the crystalline host lattice. In
+                 order to better understand the process a
+                 Monte-Carlo-simulation code based on a simple model is
+                 developed. In the present work we focus on high-dose
+                 carbon implantations into silicon. The simulation is
+                 able to reproduce results gained by cross-sectional TEM
+                 measurements of high-dose carbon implanted silicon.
+                 Necessary conditions can be specified for the
+                 self-organization process and information is gained
+                 about the compositional and structural state during the
+                 ordering process which is difficult to be obtained by
+                 experiment.",
 }
 
 @Article{zirkelbach09,
   keywords =     "Nucleation",
   keywords =     "Defect formation",
   keywords =     "Molecular dynamics simulations",
+  abstract =     "The precipitation process of silicon carbide in
+                 heavily carbon doped silicon is not yet fully
+                 understood. High resolution transmission electron
+                 microscopy observations suggest that in a first step
+                 carbon atoms form C-Si dumbbells on regular Si lattice
+                 sites which agglomerate into large clusters. In a
+                 second step, when the cluster size reaches a radius of
+                 a few nm, the high interfacial energy due to the SiC/Si
+                 lattice misfit of almost 20\% is overcome and the
+                 precipitation occurs. By simulation, details of the
+                 precipitation process can be obtained on the atomic
+                 level. A recently proposed parametrization of a
+                 Tersoff-like bond order potential is used to model the
+                 system appropriately. Preliminary results gained by
+                 molecular dynamics simulations using this potential are
+                 presented.",
 }
 
 @Article{zirkelbach10,
   month =        sep,
   doi =          "10.1103/PhysRevB.82.094110",
   publisher =    "American Physical Society",
-}
-
-@Article{zirkelbach11a,
-  title =        "First principles study of defects in carbon implanted
-                 silicon",
-  journal =      "to be published",
-  volume =       "",
-  number =       "",
-  pages =        "",
-  year =         "2011",
-  author =       "F. Zirkelbach and B. Stritzker and J. K. N. Lindner
-                 and W. G. Schmidt and E. Rauls",
-}
-
-@Article{zirkelbach11b,
-  title =        "...",
-  journal =      "to be published",
+  abstract =     "A comparative theoretical investigation of carbon
+                 interstitials in silicon is presented. Calculations
+                 using classical potentials are compared to
+                 first-principles density-functional theory calculations
+                 of the geometries, formation, and activation energies
+                 of the carbon dumbbell interstitial, showing the
+                 importance of a quantum-mechanical description of this
+                 system. In contrast to previous studies, the present
+                 first-principles calculations of the interstitial
+                 carbon migration path yield an activation energy that
+                 excellently matches the experiment. The bond-centered
+                 interstitial configuration shows a net magnetization of
+                 two electrons, illustrating the need for spin-polarized
+                 calculations.",
+}
+
+@Article{zirkelbach11,
+  title =        "Combined ab initio and classical potential simulation
+                 study on the silicon carbide precipitation in silicon",
+  journal =      "accepted for publication in Phys. Rev. B",
   volume =       "",
   number =       "",
   pages =        "",
   year =         "2011",
   author =       "F. Zirkelbach and B. Stritzker and K. Nordlund and J.
                  K. N. Lindner and W. G. Schmidt and E. Rauls",
+  abstract =     "Atomistic simulations on the silicon carbide
+                 precipitation in bulk silicon employing both, classical
+                 potential and first-principles methods are presented.
+                 The calculations aim at a comprehensive, microscopic
+                 understanding of the precipitation mechanism in the
+                 context of controversial discussions in the literature.
+                 For the quantum-mechanical treatment, basic processes
+                 assumed in the precipitation process are calculated in
+                 feasible systems of small size. The migration mechanism
+                 of a carbon \hkl<1 0 0> interstitial and silicon \hkl<1
+                 1 0> self-interstitial in otherwise defect-free silicon
+                 are investigated using density functional theory
+                 calculations. The influence of a nearby vacancy,
+                 another carbon interstitial and a substitutional defect
+                 as well as a silicon self-interstitial has been
+                 investigated systematically. Interactions of various
+                 combinations of defects have been characterized
+                 including a couple of selected migration pathways
+                 within these configurations. Almost all of the
+                 investigated pairs of defects tend to agglomerate
+                 allowing for a reduction in strain. The formation of
+                 structures involving strong carbon-carbon bonds turns
+                 out to be very unlikely. In contrast, substitutional
+                 carbon occurs in all probability. A long range capture
+                 radius has been observed for pairs of interstitial
+                 carbon as well as interstitial carbon and vacancies. A
+                 rather small capture radius is predicted for
+                 substitutional carbon and silicon self-interstitials.
+                 Initial assumptions regarding the precipitation
+                 mechanism of silicon carbide in bulk silicon are
+                 established and conformability to experimental findings
+                 is discussed. Furthermore, results of the accurate
+                 first-principles calculations on defects and carbon
+                 diffusion in silicon are compared to results of
+                 classical potential simulations revealing significant
+                 limitations of the latter method. An approach to work
+                 around this problem is proposed. Finally, results of
+                 the classical potential molecular dynamics simulations
+                 of large systems are examined, which reinforce previous
+                 assumptions and give further insight into basic
+                 processes involved in the silicon carbide transition.",
 }
 
 @Article{lindner95,
                  Rauschenbach and B. Stritzker",
   title =        "ke{V}- and Me{V}- Ion Beam Synthesis of Buried Si{C}
                  Layers in Silicon",
-  journal =      "MRS Online Proceedings Library",
+  journal =      "MRS Proc.",
   volume =       "354",
   number =       "",
   pages =        "171",
 @Article{lindner96,
   title =        "Formation of buried epitaxial silicon carbide layers
                  in silicon by ion beam synthesis",
-  journal =      "Materials Chemistry and Physics",
+  journal =      "Mater. Chem. Phys.",
   volume =       "46",
   number =       "2-3",
   pages =        "147--155",
 @Article{calcagno96,
   title =        "Carbon clustering in Si[sub 1-x]{C}[sub x] formed by
                  ion implantation",
-  journal =      "Nuclear Instruments and Methods in Physics Research
-                 Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms",
+  journal =      "Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B",
   volume =       "120",
   number =       "1-4",
   pages =        "121--124",
 @Article{lindner98,
   title =        "Mechanisms of Si{C} Formation in the Ion Beam
                  Synthesis of 3{C}-Si{C} Layers in Silicon",
-  journal =      "Materials Science Forum",
+  journal =      "Mater. Sci. Forum",
   volume =       "264-268",
   pages =        "215--218",
   year =         "1998",
   title =        "Ion beam synthesis of 3{C}-Si{C} layers in Si and its
                  application in buffer layer for Ga{N} epitaxial
                  growth",
-  journal =      "Applied Surface Science",
+  journal =      "Appl. Surf. Sci.",
   volume =       "238",
   number =       "1-4",
   pages =        "159--164",
 
 @Article{liu_l02,
   title =        "Substrates for gallium nitride epitaxy",
-  journal =      "Materials Science and Engineering: R: Reports",
+  journal =      "Mater. Sci. Eng., R",
   volume =       "37",
   number =       "3",
   pages =        "61--127",
 @Article{davis91,
   author =       "R. F. Davis and G. Kelner and M. Shur and J. W.
                  Palmour and J. A. Edmond",
-  journal =      "Proceedings of the IEEE",
+  journal =      "Proc. IEEE",
   title =        "Thin film deposition and microelectronic and
                  optoelectronic device fabrication and characterization
                  in monocrystalline alpha and beta silicon carbide",
 
 @Article{sarro00,
   title =        "Silicon carbide as a new {MEMS} technology",
-  journal =      "Sensors and Actuators A: Physical",
+  journal =      "Seonsor. Actuator. A",
   volume =       "82",
   number =       "1-3",
   pages =        "210--218",
   title =        "Status of silicon carbide (Si{C}) as a wide-bandgap
                  semiconductor for high-temperature applications: {A}
                  review",
-  journal =      "Solid-State Electronics",
+  journal =      "Solid-State Electron.",
   volume =       "39",
   number =       "10",
   pages =        "1409--1422",
 @Article{giancarli98,
   title =        "Design requirements for Si{C}/Si{C} composites
                  structural material in fusion power reactor blankets",
-  journal =      "Fusion Engineering and Design",
+  journal =      "Fusion Eng. Des.",
   volume =       "41",
   number =       "1-4",
   pages =        "165--171",
 
 @Article{pensl93,
   title =        "Electrical and optical characterization of Si{C}",
-  journal =      "Physica B: Condensed Matter",
+  journal =      "Physica B",
   volume =       "185",
   number =       "1-4",
   pages =        "264--283",
                  by ion implantation",
   publisher =    "Taylor \& Francis",
   year =         "1976",
-  journal =      "Radiation Effects",
+  journal =      "Radiat. Eff.",
   volume =       "29",
   number =       "1",
   pages =        "13--15",
                  by high doses of 70 and 310 ke{V} carbon ions",
   publisher =    "Taylor \& Francis",
   year =         "1980",
-  journal =      "Radiation Effects",
+  journal =      "Radiat. Eff.",
   volume =       "48",
   number =       "1",
   pages =        "7",
                  compounds formed in silicon by ion beam synthesis",
   publisher =    "Taylor \& Francis",
   year =         "1986",
-  journal =      "Radiation Effects",
+  journal =      "Radiat. Eff.",
   volume =       "99",
   number =       "1",
   pages =        "71--81",
                  Netherlands",
   title =        "Boron implantations in silicon: {A} comparison of
                  charge carrier and boron concentration profiles",
-  journal =      "Applied Physics A: Materials Science \& Processing",
+  journal =      "Appl. Phys. A",
   publisher =    "Springer Berlin / Heidelberg",
   ISSN =         "0947-8396",
   keyword =      "Physics and Astronomy",
   author =       "E Kasper",
   title =        "Superlattices of group {IV} elements, a new
                  possibility to produce direct band gap material",
-  journal =      "Physica Scripta",
+  journal =      "Phys. Scr.",
   volume =       "T35",
   pages =        "232--236",
   URL =          "http://stacks.iop.org/1402-4896/T35/232",
 @Article{born27,
   author =       "M. Born and R. Oppenheimer",
   title =        "Zur Quantentheorie der Molekeln",
-  journal =      "Annalen der Physik",
+  journal =      "Ann. Phys. (Leipzig)",
   volume =       "389",
   number =       "20",
   publisher =    "WILEY-VCH Verlag",
 @Article{thomas27,
   title =        "The calculation of atomic fields",
   author =       "L. H. Thomas",
-  journal =      "Mathematical Proceedings of the Cambridge
-                 Philosophical Society",
+  journal =      "Proc. Cambridge Philos. Soc.",
   volume =       "23",
   pages =        "542--548",
   year =         "1927",
   title =        "The Wave Mechanics of an Atom with a Non-Coulomb
                  Central Field. Part {I}. Theory and Methods",
   author =       "D. R. Hartree",
-  journal =      "Mathematical Proceedings of the Cambridge
-                 Philosophical Society",
+  journal =      "Proc. Cambridge Philos. Soc.",
   volume =       "24",
   pages =        "89--110",
   year =         "1928",
 @Article{perdew02,
   title =        "Generalized gradient approximations for exchange and
                  correlation: {A} look backward and forward",
-  journal =      "Physica B: Condensed Matter",
+  journal =      "Physica B",
   volume =       "172",
   number =       "1-2",
   pages =        "1--6",
 @Article{losev28,
   title =        "Luminous carborundum detector and detection effect and
                  oscillations with crystals",
-  journal =      "Philosophical Magazine Series 7",
+  journal =      "Philos. Mag. Series 7",
   volume =       "6",
   number =       "39",
   pages =        "1024--1044",
 @Article{allendorf91,
   title =        "The adsorption of {H}-atoms on polycrystalline
                  [beta]-silicon carbide",
-  journal =      "Surface Science",
+  journal =      "Surf. Sci.",
   volume =       "258",
   number =       "1-3",
   pages =        "177--189",
 @Article{newman85,
   author =       "Ronald C. Newman",
   title =        "Carbon in Crystalline Silicon",
-  journal =      "MRS Online Proceedings Library",
+  journal =      "MRS Proc.",
   volume =       "59",
   number =       "",
   pages =        "403",
 @Article{goesele85,
   author =       "U. Gösele",
   title =        "The Role of Carbon and Point Defects in Silicon",
-  journal =      "MRS Online Proceedings Library",
+  journal =      "MRS Proc.",
   volume =       "59",
   number =       "",
   pages =        "419",