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index d80e7a1..840ff9c 100644 (file)
@@ -191,10 +191,13 @@ Obviously the EA potential properly describes the relative energies of formation
 Combined structures of C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ T are energetically less favorable than the ground state C$_{\text{i}}$ \hkl<1 0 0> DB configuration.
 With increasing separation distance the energies of formation decrease.
 However, even for non-interacting defects, the energy of formation, which is then given by the sum of the formation energies of the separated defects (\unit[4.15]{eV}) is still higher than that of the C$_{\text{i}}$ \hkl<1 0 0> DB.
-Unexpectedly, the structure of a Si$_{\text{i}}$ \hkl<1 1 0> DB and a neighbored C$_{\text{s}}$, which is the most favored configuration of C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ according to quantum-mechanical calculations\cite{zirkelbach11a}, likewise constitutes an energetically favorable configuration within the EA description, which is even preferred over the two least separated configurations of C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ T.
+Unexpectedly, the structure of a Si$_{\text{i}}$ \hkl<1 1 0> DB and a neighbored C$_{\text{s}}$, which is the most favored configuration of a C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ DB according to quantum-mechanical calculations\cite{zirkelbach11a}, likewise constitutes an energetically favorable configuration within the EA description, which is even preferred over the two least separated configurations of C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ T.
 This is attributed to an effective reduction in strain enabled by the respective combination.
 Quantum-mechanical results reveal a more favorable energy of fomation for the C$_{\text{s}}$ and Si$_{\text{i}}$ T (a) configuration.
 However, this configuration is unstable involving a structural transition into the C$_{\text{i}}$ \hkl<1 1 0> interstitial, thus, not maintaining the tetrahedral Si nor the substitutional C defect.
+
+Thus, the underestimated energy of formation of C$_{\text{s}}$ within the EA calculation does not pose a serious limitation in the present context.
+Since C is introduced into a perfect Si crystal and the number of particles is conserved in simulation, the creation of C$_{\text{s}}$ is accompanied by the creation of Si$_{\text{i}}$, which is energetically less favorable than the ground state, i.e. the C$_{\text{i}}$ \hkl<1 0 0> DB configuration, for both, the EA and ab initio treatment.
 In either case, no configuration more favorable than the C$_{\text{i}}$ \hkl<1 0 0> DB has been found.
 Thus, a proper description with respect to the relative energies of formation is assumed for the EA potential.
 
@@ -276,7 +279,10 @@ Thus, time scales to observe long-term evolution are not accessible by tradition
 New accelerated methods have been developed to bypass the time scale problem retaining proper thermodynamic sampling\cite{voter97,voter97_2,voter98,sorensen2000,wu99}.
 
 However, the applied potential comes up with an additional limitation, as previously mentioned in the introduction.
-The cut-off function of the short range potential limits the interaction to nearest neighbors, which results in overestimated and unphysical high forces between neighbored atoms.
+%The cut-off function of the short range potential limits the interaction to nearest neighbors, which results in overestimated and unphysical high forces between neighbored atoms.
+The cut-off function of the short range potential limits the interaction to nearest neighbors.
+Since the total binding energy is, thus, accommodated within this short distance, which according to the universal energy relation would usually correspond to a much larger distance, unphysical high forces between two neighbored atoms arise.
+While cohesive and formational energies are often well described, these effects increase for non-equilibrium structures and dynamics.
 This behavior, as observed and discussed for the Tersoff potential\cite{tang95,mattoni2007}, is supported by the overestimated activation energies necessary for C diffusion as investigated in section \ref{subsection:cmob}.
 Indeed, it is not only the strong, hard to break C-C bond inhibiting C diffusion and further rearrangements in the case of the high C concentration simulations.
 This is also true for the low concentration simulations dominated by the occurrence of C$_{\text{i}}$ \hkl<1 0 0> DBs spread over the whole simulation volume, which are unable to agglomerate due to the high migration barrier.