X-Git-Url: https://hackdaworld.org/gitweb/?p=lectures%2Flatex.git;a=blobdiff_plain;f=nlsop%2Fdiplom%2Fsimulation.tex;h=b3695b80a6a4ddf0edae4670a80074664078e1a2;hp=e62347ca21409cee5874ae0986735de92074483a;hb=a90babd516d3dbf9cb8f0814af9ac29728faf064;hpb=ff91a919187965d977f46054b3e0aaae53e03d2a diff --git a/nlsop/diplom/simulation.tex b/nlsop/diplom/simulation.tex index e62347c..b3695b8 100644 --- a/nlsop/diplom/simulation.tex +++ b/nlsop/diplom/simulation.tex @@ -3,20 +3,18 @@ Im Folgenden soll die Implementation der Monte-Carlo-Simulation nach dem vorangegangen Modell diskutiert werden. Die Simulation tr"agt den Namen \linebreak[4] {\em NLSOP}, was f"ur die Schlagw"orter {\bf N}ano, {\bf L}amellar und {\bf S}elbst{\bf O}ragnisations-{\bf P}rozess steht. - Ziel der Simulation ist die Verifizierung des Modells anhand der experimentellen Ergebnisse, die in Abbildung \ref{img:xtem_img} vorliegen. - Die genauen Daten sind: - \begin{itemize} - \item Energie: $E=180 keV$ - \item Dosis: $D = 4,3 \times 10^{17} cm^{-2}$ - \item Temperatur: $T = 150 ^{\circ} \mathrm{C}$ - \item Implantationswinkel: $\alpha = 7 ^{\circ}$ - \item Ion/Target Kombination: $C^+ \rightarrow Si (100)$ - \end{itemize} - Anzumerken ist, dass es zwei Versionen der Simulation gibt, die unterschiedliche Tiefenbereiche abdecken. - Diese unterscheiden sich in einigen Punkten, was den Simualtionsalgorithmus betrifft. - Darauf wird in einem gesonderten Abschnitt genauer eingegangen. - Der Simulationsalgorithmus wird erkl"art und die dazu ben"otigten Annahmen und Informationen aus {\em TRIM}-Ergebnissen werden besprochen. - Das Kapitel schlie"st mit dem Test der verwendeten Zufallszahlen und dem Ablaufschema der Simulation. + Ziel der Simulation ist die Validierung des Modells anhand der experimentellen Ergebnisse, wie sie in Abbildung \ref{img:xtem_img} vorliegen. + + Es wurden zwei Versionen der Simulation erstellt, die unterschiedliche Tiefenbereiche abdecken. + Die erste Version beschreibt den Bereich von der Oberfl"ache des Targets bis zum Beginn der durchgehenden amorphen $SiC_x$-Schicht, also den Tiefenbereich von $0$ bis $300 nm$. + Nachdem eine Beschreibung der Bildung lamellarer amorpher Ausscheidungen mit dieser Version sehr gut funktioniert hat, wurde eine zweite Version entwickelt, die den gesamten Implantationsbereich betrachtet. + Auf weitere Unterschiede in den zwei Versionen wird in einem gesonderten Abschnitt genauer eingegangen. + + Der grobe Ablauf der Simulation ist wie folgt. + + Im Folgenden werden der Simulationsalgorithmus und die dazu ben"otigten Annahmen besprochen. + Ein weiterer Abschnitt besch"aftigt sich mit der Extraktion von, f"ur die Simulation notwendigen Informationen aus {\em TRIM}-Ergebnissen. + Das Kapitel schlie"st mit dem Test der verwendeten Zufallszahlen. \section{Annahmen der Simulation}