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authorhackbard <hackbard@hackdaworld.org>
Wed, 30 May 2012 21:01:44 +0000 (23:01 +0200)
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Wed, 30 May 2012 21:01:44 +0000 (23:01 +0200)
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index ee03191..c23a8a5 100644 (file)
@@ -1272,7 +1272,7 @@ Summary
 \begin{itemize}
  \item First-principles investigation of defect combinations
        and mobilities in Si
 \begin{itemize}
  \item First-principles investigation of defect combinations
        and mobilities in Si
- \item Empirical potential MD simulations on SiC prcipitation in Si
+ \item Empirical potential MD simulations on SiC precipitation in Si
 \end{itemize}
 
 \vspace{0.2cm}
 \end{itemize}
 
 \vspace{0.2cm}
@@ -1359,8 +1359,6 @@ Further conclusions
 
 
 
 
 
 
-\ifnum1=0
-
 \begin{slide}
 
 \headphd
 \begin{slide}
 
 \headphd
@@ -1414,6 +1412,74 @@ Thermal conductivity [W/cmK] & 5.0 & 4.9 & 4.9 & 1.5 & 1.3 & 22 \\
 
 \begin{slide}
 
 
 \begin{slide}
 
+\headphd
+{\large\bf
+ IBS of epitaxial single crystalline 3C-SiC
+}
+
+\footnotesize
+
+\vspace{0.2cm}
+
+\begin{center}
+\begin{itemize}
+ \item \underline{Implantation step 1}\\[0.1cm]
+        Almost stoichiometric dose | \unit[180]{keV} | \degc{500}\\
+        $\Rightarrow$ Epitaxial {\color{blue}3C-SiC} layer \&
+        {\color{blue}precipitates}
+ \item \underline{Implantation step 2}\\[0.1cm]
+        Low remaining amount of dose | \unit[180]{keV} | \degc{250}\\
+        $\Rightarrow$
+        Destruction/Amorphization of precipitates at layer interface
+ \item \underline{Annealing}\\[0.1cm]
+       \unit[10]{h} at \degc{1250}\\
+       $\Rightarrow$ Homogeneous 3C-SiC layer with sharp interfaces
+\end{itemize}
+\end{center}
+
+\begin{minipage}{6.9cm}
+\includegraphics[width=7cm]{ibs_3c-sic.eps}\\[-0.4cm]
+\begin{center}
+{\tiny
+ XTEM: single crystalline 3C-SiC in Si\hkl(1 0 0)
+}
+\end{center}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{5cm}
+\begin{center}
+\begin{pspicture}(0,0)(0,0)
+\rnode{box}{
+\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=white,linecolor=blue,linestyle=solid]{
+\begin{minipage}{3.3cm}
+ \begin{center}
+ {\color{blue}
+  3C-SiC precipitation\\
+  not yet fully understood
+ }
+ \end{center}
+% \vspace*{0.1cm}
+% \renewcommand\labelitemi{$\Rightarrow$}
+% Details of the SiC precipitation
+% \begin{itemize}
+%  \item significant technological progress\\
+%        in SiC thin film formation
+%  \item perspectives for processes relying\\
+%        upon prevention of SiC precipitation
+% \end{itemize}
+\end{minipage}
+}}
+\rput(-5.3,5.5){\pnode{h0}}
+\rput(-1.95,5.5){\pnode{h1}}
+\ncline[linecolor=blue]{-}{h0}{h1}
+\ncline[linecolor=blue]{->}{h1}{box}
+\end{pspicture}
+\end{center}
+\end{minipage}
+
+\end{slide}
+
+\begin{slide}
+
 \footnotesize
 
 \headphd
 \footnotesize
 
 \headphd
@@ -1619,6 +1685,248 @@ $\Rightarrow$ $sp^2$ hybridization
 
 \end{slide}
 
 
 \end{slide}
 
+\begin{slide}
+
+\headphd
+{\large\bf\boldmath
+ C interstitial migration --- ab initio
+}
+
+\scriptsize
+
+\vspace{0.3cm}
+
+\begin{minipage}{6.8cm}
+\framebox{\hkl[0 0 -1] $\rightarrow$ \hkl[0 0 1]}\\
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/100_2333.eps}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{0.2cm}
+$\rightarrow$
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/bc_2333.eps}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{0.2cm}
+$\rightarrow$
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/100_next_2333.eps}
+\end{minipage}\\[0.1cm]
+Symmetry:\\
+$\Rightarrow$ Sufficient to consider \hkl[00-1] to BC transition\\
+$\Rightarrow$ Migration barrier to reach BC | $\Delta E=\unit[1.2]{eV}$
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{5.4cm}
+\includegraphics[width=6.0cm]{im_00-1_nosym_sp_fullct_thesis_vasp_s.ps}
+%\end{minipage}\\[0.2cm]
+\end{minipage}\\[0.4cm]
+%\hrule
+%
+\begin{minipage}{6.8cm}
+\framebox{\hkl[0 0 -1] $\rightarrow$ \hkl[0 -1 0]}\\
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/100_2333.eps}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{0.2cm}
+$\rightarrow$
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/00-1-0-10_2333.eps}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{0.2cm}
+$\rightarrow$
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{2.0cm}
+\includegraphics[width=2.0cm]{c_pd_vasp/0-10_2333.eps}
+\end{minipage}\\[0.1cm]
+$\Delta E=\unit[0.9]{eV}$ | Experimental values: \unit[0.70--0.87]{eV}\\
+$\Rightarrow$ {\color{red}Migration mechanism identified!}\\
+Note: Change in orientation
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{5.4cm}
+\includegraphics[width=6.0cm]{00-1_0-10_vasp_s.ps}
+\end{minipage}\\[0.1cm]
+%
+%\begin{center}
+%Reorientation pathway composed of two consecutive processes of the above type
+%\end{center}
+
+\end{slide}
+
+\begin{slide}
+
+\headphd
+{\large\bf\boldmath
+ C interstitial migration --- analytical potential
+}
+\scriptsize
+
+\vspace{0.3cm}
+
+\begin{minipage}[t]{6.0cm}
+{\bf\boldmath BC to \hkl[0 0 -1] transition}\\[0.2cm]
+\includegraphics[width=6.0cm]{bc_00-1_albe_s.ps}\\
+\begin{itemize}
+ \item Lowermost migration barrier
+ \item $\Delta E \approx \unit[2.2]{eV}$
+ \item 2.4 times higher than ab initio result
+ \item Different pathway
+\end{itemize}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}[t]{0.2cm}
+\hfill
+\end{minipage}
+\begin{minipage}[t]{6.0cm}
+{\bf\boldmath Transition involving a \hkl<1 1 0> configuration}
+\vspace{0.1cm}
+\begin{itemize}
+ \item Bond-centered configuration unstable\\
+       $\rightarrow$ \ci{} \hkl<1 1 0> dumbbell
+ \item Minimum of the \hkl[0 0 -1] to \hkl[0 -1 0] transition\\
+       $\rightarrow$ \ci{} \hkl<1 1 0> DB
+\end{itemize}
+\vspace{0.1cm}
+\includegraphics[width=6.0cm]{00-1_110_0-10_mig_albe.ps}
+\begin{itemize}
+ \item $\Delta E \approx \unit[2.2]{eV} \text{ \& } \unit[0.9]{eV}$
+ \item 2.4 -- 3.4 times higher than ab initio result
+ \item After all: Change of the DB orientation
+\end{itemize}
+\end{minipage}
+
+\vspace{0.5cm}
+\begin{center}
+{\color{red}\bf Drastically overestimated diffusion barrier}
+\end{center}
+
+\begin{pspicture}(0,0)(0,0)
+\psline[linewidth=0.05cm,linecolor=gray](6.1,1.0)(6.1,9.3)
+\end{pspicture}
+
+\end{slide}
+
+\begin{slide}
+
+\headphd
+{\large\bf\boldmath
+ Silicon carbide precipitation simulations at \degc{450} as in IBS
+}
+
+\small
+
+\begin{minipage}{6.3cm}
+\hspace*{-0.4cm}\includegraphics[width=6.5cm]{sic_prec_450_si-c.ps}\\
+\hspace*{-0.4cm}\includegraphics[width=6.5cm]{sic_prec_450_si-si_c-c.ps}
+\hfill
+\end{minipage} 
+\begin{minipage}{6.1cm}
+\scriptsize
+\underline{Low C concentration --- {\color{red}$V_1$}}\\[0.1cm]
+\ci{} \hkl<1 0 0> dumbbell dominated structure
+\begin{itemize}
+ \item Si-C bumbs around \unit[0.19]{nm}
+ \item C-C peak at \unit[0.31]{nm} (expected in 3C-SiC):\\
+       concatenated differently oriented \ci{} DBs
+ \item Si-Si NN distance stretched to \unit[0.3]{nm}
+\end{itemize}
+\begin{pspicture}(0,0)(6.0,1.0)
+\rput(3.2,0.5){\psframebox[linewidth=0.03cm,linecolor=blue]{
+\begin{minipage}{6cm}
+\centering
+Formation of \ci{} dumbbells\\
+C atoms separated as expected in 3C-SiC
+\end{minipage}
+}}
+\end{pspicture}\\[0.1cm]
+\underline{High C concentration --- {\color{green}$V_2$}/{\color{blue}$V_3$}}
+\begin{itemize}
+\item High amount of strongly bound C-C bonds
+\item Increased defect \& damage density\\
+      $\rightarrow$ Arrangements hard to categorize and trace
+\item Only short range order observable
+\end{itemize}
+\begin{pspicture}(0,0)(6.0,0.8)
+\rput(3.2,0.5){\psframebox[linewidth=0.03cm,linecolor=blue]{
+\begin{minipage}{6cm}
+\centering
+Amorphous SiC-like phase
+\end{minipage}
+}}
+\end{pspicture}\\[0.3cm]
+\begin{pspicture}(0,0)(6.0,2.0)
+\rput(3.2,1.0){\psframebox[linewidth=0.05cm,linecolor=black]{
+\begin{minipage}{6cm}
+\vspace{0.1cm}
+\centering
+{\bf\color{red}Formation of 3C-SiC fails to appear}\\[0.3cm]
+\begin{minipage}{0.8cm}
+{\bf\boldmath $V_1$:}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{5.1cm}
+Formation of \ci{} indeed occurs\\
+Agllomeration not observed
+\end{minipage}\\[0.3cm]
+\begin{minipage}{0.8cm}
+{\bf\boldmath $V_{2,3}$:}
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{5.1cm}
+Amorphous SiC-like structure\\
+(not expected at \degc{450})\\[0.05cm]
+No rearrangement/transition into 3C-SiC
+\end{minipage}\\[0.1cm]
+\end{minipage}
+}}
+\end{pspicture}
+\end{minipage}
+
+\end{slide}
+
+\begin{slide}
+
+\headphd
+{\large\bf\boldmath
+ Increased temperature simulations --- $V_1$
+}
+
+\small
+
+\begin{minipage}{6.2cm}
+\hspace*{-0.4cm}\includegraphics[width=6.5cm]{tot_pc_thesis.ps}
+\hfill
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{6.2cm}
+\includegraphics[width=6.5cm]{tot_pc3_thesis.ps}
+\end{minipage}
+
+\begin{minipage}{6.2cm}
+\hspace*{-0.4cm}\includegraphics[width=6.5cm]{tot_pc2_thesis.ps}
+\hfill
+\end{minipage}
+\begin{minipage}{6.3cm}
+\scriptsize
+ \underline{Si-C bonds:}
+ \begin{itemize}
+  \item Vanishing cut-off artifact (above $1650\,^{\circ}\mathrm{C}$)
+  \item Structural change: \ci{} \hkl<1 0 0> DB $\rightarrow$
+        {\color{blue}\cs{}}
+ \end{itemize}
+ \underline{Si-Si bonds:}
+ {\color{blue}Si-C$_{\text{sub}}$-Si} along \hkl<1 1 0>
+ ($\rightarrow$ 0.325 nm)\\[0.1cm]
+ \underline{C-C bonds:}
+ \begin{itemize}
+  \item C-C next neighbour pairs reduced (mandatory)
+  \item Peak at 0.3 nm slightly shifted\\[0.05cm]
+        $\searrow$ \ci{} combinations (dashed arrows)\\
+        $\nearrow$ \ci{} \hkl<1 0 0> \& {\color{blue}\cs{} combinations} (|)\\
+        $\nearrow$ \ci{} pure \cs{} combinations ($\downarrow$)\\[0.05cm]
+        Range [|-$\downarrow$]: {\color{blue}\cs{} \& \cs{} with nearby \si}
+ \end{itemize}
+\end{minipage}
+
+\end{slide}
+
 \begin{slide}
 
  {\large\bf
 \begin{slide}
 
  {\large\bf
@@ -1687,82 +1995,6 @@ High C \& low T implants
 
 \end{slide}
 
 
 \end{slide}
 
-
-
-\begin{slide}
-
- {\large\bf
-  Valuation of a practicable temperature limit
- }
-
- \small
-
-\vspace{0.1cm}
-
-\begin{center}
-\framebox{
-{\color{blue}
-Recrystallization is a hard task!
-$\Rightarrow$ Avoid melting!
-}
-}
-\end{center}
-\vspace{0.1cm}
-
-\footnotesize
-
-\begin{minipage}{6.4cm}
-\includegraphics[width=6.4cm]{fe_and_t.ps}
-\end{minipage}
-\begin{minipage}{5.7cm}
-\underline{Melting does not occur instantly after}\\
-\underline{exceeding the melting point $T_{\text{m}}=2450\text{ K}$}
-\begin{itemize}
-\item required transition enthalpy
-\item hysterisis behaviour
-\end{itemize}
-\underline{Heating up c-Si by 1 K/ps}
-\begin{itemize}
-\item transition occurs at $\approx$ 3125 K
-\item $\Delta E=0.58\text{ eV/atom}=55.7\text{ kJ/mole}$\\
-      (literature: 50.2 kJ/mole)
-\end{itemize}
-\end{minipage}
-
-\vspace{0.1cm}
-
-\framebox{
-\begin{minipage}{4cm}
-Initially chosen temperatures:\\
-$1.0 - 1.2 \cdot T_{\text{m}}$
-\end{minipage}
-}
-\begin{minipage}{2cm}
-\begin{center}
-$\Longrightarrow$
-\end{center}
-\end{minipage}
-\framebox{
-\begin{minipage}{5cm}
-Introduced C (defects)\\
-$\rightarrow$ reduction of transition point\\
-$\rightarrow$ melting already at $T_{\text{m}}$
-\end{minipage}
-}
-
-\vspace{0.4cm}
-
-\begin{center}
-\framebox{
-{\color{blue}
-Maximum temperature used: $0.95\cdot T_{\text{m}}$
-}
-}
-\end{center}
-
-\end{slide}
-
 \begin{slide}
 
  {\large\bf
 \begin{slide}
 
  {\large\bf
@@ -2036,7 +2268,5 @@ Defect formation energy with respect to the size of the supercell\\[0.1cm]
 
 \end{slide}
 
 
 \end{slide}
 
-\fi
-
 \end{document}
 
 \end{document}
 
index 676db77..efd8304 100644 (file)
@@ -2,12 +2,12 @@ slide 1
 
 thank you very much and welcome everybody.
 as the title suggests / as already mentioned ...
 
 thank you very much and welcome everybody.
 as the title suggests / as already mentioned ...
-... i am going to present theoretical results of investigations
-of defect structures and mobilities in silicon.
+... i am going to present results of theoretical investigations
+of defects and defect mobilities in silicon.
 
 slide 2
 
 
 slide 2
 
-of course there is an experimental / practical motivation,
+there is of course an experimental / practical motivation,
 which is the ion beam synthesis (IBS) of thin films of epitaxial 3C-SiC in Si.
 IBS consists of  high-dose C implantation in Si followed by an annealing step,
 which, if properly done, results in buried homogeneous thin films of SiC
 which is the ion beam synthesis (IBS) of thin films of epitaxial 3C-SiC in Si.
 IBS consists of  high-dose C implantation in Si followed by an annealing step,
 which, if properly done, results in buried homogeneous thin films of SiC
@@ -53,170 +53,87 @@ accompanied by strain relaxation.
 these findings suggest a mechanism based on the agglomeration of substitutional
 instead of interstitial carbon.
 
 these findings suggest a mechanism based on the agglomeration of substitutional
 instead of interstitial carbon.
 
-slide 6
+slide 5
 
 to understand the precipitation mechanism
 in the context of these controversial results
 atomistic simulations are performed.
 
 
 to understand the precipitation mechanism
 in the context of these controversial results
 atomistic simulations are performed.
 
-HIER WEITER
-
-in md, a system of n particles is described
-by numerically integrating newtons equations of motion.
-the particle interaction is given by an analytical interaction potential.
-observables are obtained by taking time or ensemble averages.
-
-roughly 6000 atoms were used to investigate defect structures
-and nearly a quater of a million for the precipitation simulations.
-the equations of motion are integrated by the velocity verlet algorithm
-with a time step of 1 fs.
-the interaction is decribed by a Tersoff-like short-range bond order potential,
-developed by erhart and albe.
-the short range character is achieved by a cutoff function,
-which drops the interaction to zero inbetween the first and next neighbor atom.
-simulations are performed in the isothermal-isobaric ensemble
-realized by the berendsen thermostat and barostat.
-
-the basic concept of dft is the hohenberg kohn (hk) theorem, which states that
-the ground-state wavefunction is a unique functional of the ground-state
-electron density, which minimizes the energy,
-i.e. it has the variational property.
-now, the kohn sham (ks) approach constitutes a hartree-like formulation
-of the hk minimal principle, which maps the system of interacting electrons to
-an auxillary system of non-interacting electrons in an effective potential.
-however formally exact by introducing an energy functional,
-which accounts for exchange and correlation.
-the kohn sham equations need to be solved in a self consistency loop.
-
-the vasp code is used for this purpose.
-it utilizes plane waves to expand the ks wavefunctions.
-an energy cut-off of 300 eV is employed.
-the electron-ion interaction is described by ultrasoft pseudopotentials.
-the generalized gradient approximation is used to solve the ks equations.
-sampling in k space is restricted to the gamma point.
-the supercell consists of 216 atoms.
+namely, molecular dynamics simulations,
+employing an empirical Tersoff-like short range bond order potential
+developed by Erhart and Albe.
+a large amount of atoms can be simulated.
 
 
-slide 8
+moreover, the investigations are extended by first-principles calculations
+based on dft using the plane wave pseudopotgential vasp code.
+of course limited to smaller systems.
 
 
-defect structures are obtained by creating a supercell of crystalline silicon.
-the interstitial carbon or silicon atom is inserted,
-for example at the tetrahedral or heexagonal site,
-followed by structural relaxation into a local minimum configuration.
+slide 6
 
 
-next to the structure, defects can be characterized by the formation energy,
-which is defined by this formula.
+using these methods we can now investigate single defect structures,
+which can be characterized by the formation energy.
 
 
-combinations of defects can be characterized by the binding energy,
-the difference of the formation energy of the defect combination and
-the isolated defects.
-this way, binding energies below zero correspond to energetically favorable
-configurations whereas the binding energy for non-interacting isolated defects
-approaches zero.
+Defect combinations can be described by the binding energy,
+the difference of the formation energy of the defect combination
+and the isoltaed defects.
 
 
-migration barriers from one stable configuration into another
-are obtained by the constrained relaxation technique.
-the diffusing atom is displaced stepwise from the starting
-to the final position and relaxation is only allowed
-perpendicular to the displacement direction.
-each step the configurational energy is recorded.
+to acquire the mobilities migration barriers
+are obtained by a constrained relaxation technique.
 
 
-slide 9
+slide 7
+
+now let's turn to the results ...
+... of carbon interstitial defects in silicon.
 
 
-this has been used to investigate, amongst others,
-carbon interstitial defects in silicon.
 both methods provide the correct order of the formation energies
 and find the 100 db to be the ground state.
 both methods provide the correct order of the formation energies
 and find the 100 db to be the ground state.
+
 the hexagonal defect is unstable relaxing into the ground state.
 the hexagonal defect is unstable relaxing into the ground state.
-the tetrahedral configuration is found to be unstable 
-in contrast to the prediction of the classical potential, which, however,
-shows a high energy of formation making this defect very unlikely to occur.
-the opposite is found for the bond-centered configuration, which constitutes
-a stable configuration but is found unstable in the classical description,
-relaxing into the 110 db configuration.
-however, again, the formation energy is quite high and, thus,
-the wrong description is not posing a serious limitation.
+
+it is worth to note that the bond centered configuration
+is unstable only within the empirical description, relaxing into the 110 DB.
+however, the formation energy is quite high
+so this does not pose a serious limitation.
+
 the substitutional defect, which is not an interstitial defect,
 the substitutional defect, which is not an interstitial defect,
-has the lowest formation energy for both methods, although, 
-it is drastically underestimated in the empirical approach.
+has the lowest formation energy and is drastically underestimated within EA.
 regarding the problem addressed in this study, this might constitute a problem.
 however, it turns out, that combination of Cs and Si_i are very well described
 by the ea potential, with formation energies higher than the ground state.
 
 regarding the problem addressed in this study, this might constitute a problem.
 however, it turns out, that combination of Cs and Si_i are very well described
 by the ea potential, with formation energies higher than the ground state.
 
-slide 10
-
-as a next step, the Ci mobility is determined by the quantum mechanical method.
-two of the intuitively guessed migration pathways of a carbon 00-1 db are shown.
-
-in number one, the carbon atom resides in the 110 plane
-crossing the bc configuration.
-due to symmetry it is sufficient to consider only the first half
-of the transition path.
-an activation energy of 1.2 eV is obtained.
-actually another barrier exists to reach a ground-state configuration.
-
-in path two, the carbon atom moves towards the same silicon atom, however,
-it escapes the 110 plane and forms a 0-10 oriented db.
-the obtained actiavtion energy of 0.9 eV excellently matches experiment.
-thus, there is no doubt, the migration mechanism is identified.
+slide 8
 
 
-slide 11
+concerning the defect mobility, by first-principles methods,
+a migration path is found, the 00-1 to 0-10 transition,
+with a barrier that excellently matches experimental values.
+the migration path is identified, it involves a change in orientation of the DB.
 
 
-the situation changes completely for the classical description.
-path number one, shows the lowermost migration barrier of 2.2 eV.
-next to the fact, that this is a different pathway,
-the barrier is overestimated by a factor of 2.4.
-
-moreover, the ea description predicts the bc configuration to be unstable
-relaxing into the 110 db configuration.
-additionally, the observed minimum in the classical 00-1 to 0-10 transition,
-likewise relaxes into the 110 db structure without constraints.
-
-this suggests to investigate the transition involving the 110 configuration.
-this migration is displayed here,
-the 00-1 db turns into a 110 type followed by a final rotation into the 0-10 db
-configuration.
-barriers of 2.2 eV and 0.9 eV are obtained.
-these activation energies are 2.4 to 3.4 times higher than the ab initio ones.
-however, due to the above reasons, this is considered the most probable
-migration path in the ea description.
-and after all, the expected change of the db orientation is fullfilled.
-
-nevertheless, diffusion barriers are drastically overestimated
-by the classical potentials, a problem, which needs to be addressed later on.
+related to the just mentioned instability of the BC configuration,
+the most probable transition for the empirical potential
+involves an intermediate 110 DB configuration.
+this results in a barrier, which is up to 3.4 times higher than the ab initio
+or experimental value.
+At least, there is the same change in orientation, a qualitative agreement.
 
 
-slide 12
+slide 9
 
 
-implantation of highly energetic carbon atoms results in a multiplicity
+implantation of carbon atoms results in a multiplicity
 of possible point defects and respective combinations.
 thus, in the following, defect combinations of an initial carbon interstitial
 of possible point defects and respective combinations.
 thus, in the following, defect combinations of an initial carbon interstitial
-and further types of defects,
-created at certain neighbor positions, numbered 1-5, are investigated.
-the investigations are restricted to dft calculations.
-energetically favorable and unfavorable configurations,
-determined by the binding energies,
-can be explained by stress compensation and increase respetively.
-
-as can be seen, the agglomeration of interstitial carbon is energetically
-favorable.
-the most favorable configuration shows a strong C-C bond.
-however, a high migration barrier is necessary to obtain this configuration
-in contrast to the second most favorable configuration,
-which additionally is represented 2 times more often in the systematically
-investigated configuration space.
-
-this suggests that agglomeration of Ci indeed is expected, but no C clustering.
+and further types of defects created in the vicinity are inestigated by dft.
 
 
-slide 13
+concerning combinations of 100-type interstitials,
+there are lots of negative values for the binding energy,
+so the agglomeration of C_i is indeed energetically favorable,
+mainly due to a reduction of strain.
 
 
-this is reinforced by the plot of the binding energy of dumbbells
-separated along the 110 direction.
-a capture radius clearly exceeding 1 nm is observed.
+a capture radius clearly exceeding 1 nm is observed
+for the interaction of DBs along the 110 direction.
 however, the interpolated graph suggests the disappearance of attractive forces
 between the two lowest separation distances.
 however, the interpolated graph suggests the disappearance of attractive forces
 between the two lowest separation distances.
+so this suggests agglomeration of C but the absence of C clustering.
 
 
-this supports the assumption of C agglomeration and the absence of C clustering.
-
-slide 14
+slide 10
 
 if a vacancy is created next to the Ci defect,
 a situation absolutely conceivable in ibs,
 
 if a vacancy is created next to the Ci defect,
 a situation absolutely conceivable in ibs,
@@ -226,11 +143,9 @@ in contrast, high barriers are necessary for the reverse process.
 
 based on this, a high probability of stable Cs configurations must be concluded.
 
 
 based on this, a high probability of stable Cs configurations must be concluded.
 
-slide 15
+slide 11
 
 in addition, it is instructive to look at combinations of Cs and Si_i.
 
 in addition, it is instructive to look at combinations of Cs and Si_i.
-the most favorable configuration is obtained for
-Cs located right next to the 110 Si db within the 110 chain.
 this configuration is still less favorable than the Ci 100 ground state.
 however, the interaction of C_s and Si_i drops quickly to zero
 indicating a low capture radius.
 this configuration is still less favorable than the Ci 100 ground state.
 however, the interaction of C_s and Si_i drops quickly to zero
 indicating a low capture radius.
@@ -242,11 +157,11 @@ the barrier is even smaller than migration barrier for carbon.
 in addition, the low migration barrier of interstitial silicon,
 enables configurations of further separated Cs and Si_i defects.
 
 in addition, the low migration barrier of interstitial silicon,
 enables configurations of further separated Cs and Si_i defects.
 
-in total, these findings demonstrate that configurations of Cs and Si_i,
+these findings suggest that configurations of Cs and Si_i,
 instead of the thermodynamic ground state, play an important role in ibs,
 which indeed constitutes a process far from equilibrium.
 
 instead of the thermodynamic ground state, play an important role in ibs,
 which indeed constitutes a process far from equilibrium.
 
-slide 16
+slide 12
 
 this is supported by results of an ab inito md simulation at 900 dc.
 the initial configuration of Cs and Si_i does not recombine into the gs,
 
 this is supported by results of an ab inito md simulation at 900 dc.
 the initial configuration of Cs and Si_i does not recombine into the gs,
@@ -254,226 +169,46 @@ instead, the defects are separated by more than 4 neighbor distances
 realized in a repeated migration mechanism of annihilating and arising Si_i dbs.
 
 clearly, at higher temperatures, the contribution of entropy
 realized in a repeated migration mechanism of annihilating and arising Si_i dbs.
 
 clearly, at higher temperatures, the contribution of entropy
-to structural formation increases, which results in a spatial separation,
-even for defects located within the capture radius.
-
-!!!
-to conclude, the results of the investigations of defect combinations
-suggest an increased participation of Cs already in the initial stage
-of precipitation due to its high probability of incidence.
-
-slide 17
-
-as a last task, reproducing the SiC precipitation is attempted
-by successive insertion of 6000 C atoms,
-the number necessary to form a  minimal precipitate,
-into a supercell consisting of 31 Si unit cells in each direction.
-insertion is realized at constant temperature.
-due to the high amount of particles,
-the classical potential must be used.
-since low carbon diffusion due to the overestimated barriers is expected,
-insertion volumes v2 and v3 next to the total volume v1 are considered.
-v2 corresponds to the minimal precipiatte size.
-v3 contains the amount of silicon atoms to form such a minimal precipitate.
+to structural formation increases, resulting in configurations of C_s and Si_i.
+
+slide 13
+
+these findings are supported by results of empirical potential MD simulations
+employed to directly simulate precipitation.
+
+6000 C atoms are inserted at constant temperature into a Si volume
+consisting of 31 Si unit cells in each direction.
+
+smaller insertion volumes were also considered due to an expected low diffusion.
+however - here - we only consider the total volume.
+
 after insertion, the simulation is continued for 100 ps
 follwed by a cooling sequence downto 20 degrees celsius.
 
 after insertion, the simulation is continued for 100 ps
 follwed by a cooling sequence downto 20 degrees celsius.
 
-slide 18
+slide 14
 
 
-the radial distribution function of simulations at 450 dc,
+the radial distribution function of Si-C bonds of simulations at 450 dc,
 an operative and efficient temperature in ibs, are shown.
 
 an operative and efficient temperature in ibs, are shown.
 
-for the low C concentration simulation,
 a clearly 100 C-Si db dominated structure is obtained,
 which is obvious by comparing it to the
 reference distribution generated by a single Ci defect.
 a clearly 100 C-Si db dominated structure is obtained,
 which is obvious by comparing it to the
 reference distribution generated by a single Ci defect.
-the second peak is an artifact due to the cut-off.
-the C-C peak at 0.31 nm, as expected in cubic SiC,
-is generated by concatenated, differently oriented Ci dbs.
-the same distance is also expected for the Si atoms, and, indeed,
-the db structure stretches the Si-Si next neighbor distance,
-which is represented by nonzero values in the correlation function.
-
-so, the formation of Ci dumbbells indeed occurs.
-even the C atoms are already found in a separation as expected in cubic SiC.
-
-turning to the high C concentration simulations,
-a high amount of strongly bound C-C bonds
-as in graphite or diamond is observed.
-due to increased defect and damage densities 
-defect arrangemnets are hard to categorize and trace.
-only short range order is observed.
-and, indeed, by comparing to other distribution data,
-an amorphous SiC-like phase is identified.
-
-slide 19
-
-to summarize, the formation of cubic SiC fails to appear.
-neither agglomeration of C interstitials
-nor a transition into SiC can be identified.
-
-slide 20
-
-having a closer look, there are two obvious reasons for this obstacle.
-
-first of all, there is the time scale problem inherent to md in general,
-which results in a slow phase space propagation due to
-a large amount of local minima separated by large energy barriers.
-accelerated methods, like temperature accelerated MD and so on, exist
-to bypass the time scale problem while retaining proper thermodynamic sampling.
-
-however, in addition, the overestimated diffusion barriers,
-due to the short range character of the potential,
-intensify this problem, which I termed:
-potential enhanced slow phase space propagation.
-
-the approach used in this study is to simply increase the temperature, however,
-without possible corrections.
-accelerated methods or higher time scales applied exclusively
-are assumed to be not sufficient.
-anyways, in this case,
-structural evolution instead of equilibrium properties are matter of interest.
-
-slide 21
-
-and indeed, promising changes are observed by comparing,
-again the radial distribution data for temperatures up to 2050 dc.
-first of all, the cut-off artifact disappears.
-more important, a transition into a clearly Cs dominated structure takes place,
-as can be seen by direct comparison with the respective reference peaks of Cs.
-
-the rising Si-Si peak is due to stretched Si-C-Si structures
-along a 110 direction.
-
-the C-C next neighbor pairs are reduced,
-which is mandatory for SiC formation.
-the peak at roughly 0.3 nm gets slightly shifted to higher distances,
-due to a decrease of interstitial carbon combinations accompanied by an
-increase in interstitial and substitutional as well as pure substitutional
-combinations.
-increasing values in this range
-correspond to bonds of Cs and another Cs with a nearby Si_i atom.
-
-slide 22
-
-to conclude, stretched coherent structures are directly observed.
-therefore, it is expected that Cs is extensively involved
-in the precipitation process for implantations at elevated temperatures.
-
-the emission of Si_i serves several needs:
-as a vehicle to rearrange stable Cs,
-as a building block for the surrounding Si host or further SiC formation.
-and for strain compensation either at the Si/SiC interface
-or in the stretched SiC structure, which, again,
-was diretly observed in simulation.
-
-this perfectly explains the results of the annealing experiments
-stated in the beginning of this talk.
-at low temperatures highly mobile Ci
-whereas at high temperatures stable Cs configurations are formed.
-
-thus, it is further concluded that high temperatures are necessary to model
-ibs conditions, which are far from equilibrium.
-the high temperatures deviate the system from thermodynamic equilibrium
-enabling Ci to turn into Cs.
-
-slide 23
-
-to summarize and conclude ...
-point defects were investigated by both methods.
-the interstitial carbon mmigration path was identified.
-it turned out that the diffusion barrier is drastically overestimated
-within the ea description.
-
-combinations of defects were investigated by first principles methods.
-the agglomeration of point defects is energetically favorable.
-however, substitutional carbon arises in all probability.
-even transitions from the ground state are very likely to occur.
-
-concerning the precipitation simulations, the problem of
-potential enhanced slow phase space propagation was discussed.
-high temperatures are assumed necessary to simulate ibs conditions.
-at low temperatures a dumbbell dominated structure is obatined
-whereas 
-it is expected that
-Stretched structures of SiC were observed at elevated temperatures.
-it is thus concluded that
-substitutional carbon is heavily involved in the precipitation process.
-the role of the Si_i was outlined.
-
-in total, these results suggest,
-that cubic SiC precipitation occurs by successive agglomeration of Cs.
-
-slide 24
-
-finally, I would like to thank all of the people listed on this slide,
-categorized by location.
-
-thank you for your attention!
-
-
-
-
-
-slide X polytypes
-
-although the local order of the silicon and carbon atoms
-characterized by the tetrahedral bond is always the same,
-more than 250 different polytypes exist,
-which differ in the one-dimensional stacking sequence of
-identical, close-packed SiC bilayers,
-the stacking sequence of the most important polytypes is displayed here.
-the 3c polytype is the only cubic polytype.
-
-different polytypes exhibit different properties,
-which are listed in the table
-and compared to other technologically relevant semiconductor materials.
-SiC clearly outperforms silicon.
-among the different polytypes, the cubic phase shows the highest
-break down field and saturation drift velocity.
-additionally, these properties are isotropic.
-thus, the cubic polytype is considered most effective for highly efficient
-high-performance electronic devices.
-
-slide X silicon self interstitials
-
-in the following, structures and formation energies
-of silicon self-interstitial defects are shown.
-the classical potential and ab initio method predicts formation energies,
-which are within the same order of magnitude.
-however, discrepancies exist.
-quantum-mechanical results reveal the silicon 110 interstitial dumbbell (db)
-as the ground state closely followed by the hexagonal and tetrahedral
-configuration, which is the consensus view for silicon interstitials.
-in contrast, the ea potential favors the tetrahedral configuration,
-a known problem, which arises due to the cut-off
-underestimating the closely located second next neighbors.
-the hexagonal defect is not stable
-opposed to results of the authors of the potential.
-first, it seems to condense at the hexagonal site but suddenly
-begins to move towards a more favoarble position,
-close to the tetrahedral one but slightly displaced along all 3 coordinate axes.
-this energy is equal to the formation energy given in the original work.
-this artificial configuration, however, turns out to have negligible influence
-in finite temperature simulations due to a low migration barrier into the
-tetrahedral configuration.
-nevertheless, all these discrepancies have to be taken into account
-in the following investigations of defect combinations.
-
-slide X quantum mechanical details of 100 and bc
-
-it is worth to note that there are differences in the 100 defect geometries
-obtained by both methods.
-while the carbon-silicon distance of the db is equal,
-the db position inside the tetrahedron differs significantly.
-of course, the classical potential is not able to reproduce
-the clearly quantum mechanically dominated character of bonding.
-
-more important, the bc configuration is found to constitute
-a local minimum configuration and not a saddle point as found in another study.
-this is due to the neglection of spin in these calculations, which,
-however, is necessary as can already be seen from simple molecular orbital
-considerations, assuming a sp hybridized carbon atom due to the linear bond.
-this assumption turns to be right as indicated by the charge density isosurface
-which shows a net spin up density located in a torus around the C atom.
+
+so, the formation of Ci dumbbells indeed occurs
+but no agglomeration is observed.
+
+one reason is the drastically overestimated dissufion barrier
+within the empirical potential description as outlined earlier.
+due to this, simulations are performed at increased temperatures.
+agglomeration and precipitation is still not observed, however,
+a phase transition into a clearly Cs dominated structure
+can be observed with increasing temperature
+by comparing with the reference peak.
+stretched coherent structures of SiC are directly observed
+and the Si_i could be attributed the role of strain reduction.
+
+slide 15
+
+i would like to conclude.
+based on both, ...