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authorhackbard <hackbard@hackdaworld.org>
Fri, 25 May 2012 20:25:39 +0000 (22:25 +0200)
committerhackbard <hackbard@hackdaworld.org>
Fri, 25 May 2012 20:25:39 +0000 (22:25 +0200)
posic/publications/emrs2012.tex

index d80d257..2627c46 100644 (file)
 Results of atomistic simulations aimed at understanding precipitation of the highly attractive wide band gap semiconductor material silicon carbide in silicon are presented.
 The study involves a systematic investigation of intrinsic and carbon-related defects as well as defect combinations and defect migration by both, quantum-mechanical first-principles as well as empirical potential methods.
 Comparing formation and activation energies, ground-state structures of defects and defect combinations as well as energetically favorable agglomeration of defects are predicted.
-Moreover, the highly accurate {\em ab initio} calculations unveil limitations of the analytical method based on a Tersoff-like bond order potential.
+Moreover, accurate {\em ab initio} calculations unveil limitations of the analytical method based on a Tersoff-like bond order potential.
 A work-around is proposed in order to subsequently apply the highly efficient technique on large structures not accessible by first-principles methods.
 The outcome of both types of simulation provides a basic microscopic understanding of defect formation and structural evolution particularly at non-equilibrium conditions strongly deviated from the ground state as commonly found in SiC growth processes.
-A possible precipitation mechanism, which conforms well to experimental findings clarifying contradictory views present in the literature is outlined.
+A possible precipitation mechanism, which conforms well to experimental findings and clarifies contradictory views present in the literature is outlined.
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 \maketitle