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From: hackbard <hackbard>
Date: Fri, 8 Jul 2005 14:30:29 +0000
Subject: [PATCH] ci often and soon

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 nlsop/diplom/ergebnisse.tex | 2 +-
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@@ -43,7 +43,7 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis
 
     \begin{figure}[h]
     \includegraphics[width=12cm]{if_cmp3.eps}
-    \caption{Vergleich von Simulationsergebnis und experimentellen Ergebnis einer bei $150 \, ^{\circ} \mathrm{C}$ mit $180 keV \quad C^+$ implantierten $Si$-Probe mit einer Dosis von $4,3 \times 10^{17} cm^{-2}$. Simulationsparameter: \ldots}
+    \caption{Vergleich von Simulationsergebnis und experimentellen Ergebnis einer bei $150 \, ^{\circ} \mathrm{C}$ mit $180 keV \quad C^+$ implantierten $Si$-Probe mit einer Dosis von $4,3 \times 10^{17} cm^{-2}$. Simulationsparameter: $s = 3 \times 10^{7}$, $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_v=10$, $d_r=0,5$.}
     \label{img:tem_sim_comp}
     \end{figure}
     Zun"achst wird nach einem Satz von Parametern gesucht, der die experimentellen Ergebnisse reproduziert.
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2.20.1