From 54913b8dde6a41a32d82e85eddf8e9d26361e3df Mon Sep 17 00:00:00 2001 From: hackbard Date: Wed, 5 Oct 2005 08:22:24 +0000 Subject: [PATCH] updated d_v influence --- nlsop/diplom/ergebnisse.tex | 18 +++++------------- nlsop/diplom/simulation.tex | 2 +- 2 files changed, 6 insertions(+), 14 deletions(-) diff --git a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex index faf4971..ef0ac15 100644 --- a/nlsop/diplom/ergebnisse.tex +++ b/nlsop/diplom/ergebnisse.tex @@ -137,16 +137,8 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis Die Lamellenstrukturen in Abbildung \ref{img:diff_influence} a) setzen sich demnach wesentlich aus "Uberlagerungen von Ortswellen dieser zwei Frequenzen zusammen. Tats"achlich findet man Lamellen haupts"achlich in den zwei entsprechenden Abst"anden vor. - \begin{figure}[h] - \includegraphics[width=15cm]{low_to_high_dv.eps} - \caption{Simulationsergebnisse f"ur a) $d_v=10$, b) $d_v=100$, c) $d_v=1000$, d) $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$} - \label{img:dv_influence} - \end{figure} - \begin{figure}[h] - \includegraphics[width=13cm]{ls_dv_cmp.eps} - \caption{Linescan der fouriertransformierten Cross-Sections von Simulationen mit $d_v=10$ und $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$} - \label{img:dv_ls} - \end{figure} + \printimg{h}{width=15cm}{low_to_high_dv.eps}{Simulationsergebnisse f"ur a) $d_v=10$, b) $d_v=100$, c) $d_v=1000$, d) $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$.}{img:dv_influence} + \printimg{h}{width=13cm}{ls_dv_cmp.eps}{Linescan der fouriertransformierten Cross-Sections von Simulationen mit $d_v=10$ und $d_v=10000$. Simulationsparameter: $p_b=0$, $p_c=0,0001$, $p_s=0,003$, $d_r=0,5$, $s=2 \times 10^{7}$.}{img:dv_ls} Neben der Diffusionsrate $d_r$ beschreibt der Simulationparameter $d_v$ den Diffusionsprozess. Er gibt an, wie oft der Diffusionsschritt ausgef"uhrt wird (alle $d_v$ Schritte), und hat den Zweck, die Rechenzeit des Programms durch Reduzierung des besonders zeitaufw"andigen Diffusionsschrittes kurz zu halten. In Abbildung \ref{img:dv_influence} sind Simulationsergebnisse f"ur verschiedene $d_v$ abgebildet. @@ -156,15 +148,15 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis Die Diffusion als essentieller Mechanismus f"ur den Selbstorganisationsprozess findet somit statt. Man erkennt eine minimale Abnahme des lamellaren Tiefenbereichs von ungef"ahr $10 nm$ mit zunehmenden $d_r$. - HIERWEITER Ausserdem kann man eine kleine Zunahme der Periodenl"ange der Lamellen mit zunehmendem $d_v$ erahnen. Dies erkennt man am besten beim Vergleich der zwei Extrema $d_v=10$ und $d_v=10000$. + Dies liegt wiederum an der schnelleren Diffusion, die eine aggressivere Anh"aufung von Kohlenstoff selbst in Tiefen geringerer Kohlenstoffkonzentration bewirkt und durch daraus resultierende h"ohere Druckspannungen die Lamellenl"ange beeinflusst. In Abbildung \ref{img:dv_ls} sind die Linescans der fouriertransformierten Cross-Sections $a)$ und $b)$ aus Abbildung \ref{img:dv_influence} zu sehen. Die Zunahme der Periode macht sich hier durch die Verschiebung der Intensit"atsmaxima zu h"oheren Frequenzen bemerkbar. W"ahrend der Linescan f"ur $d_v=10000$ (blau) schon f"ur Frequenzen unter $0,1 nm^{-1}$ lokale Intensit"atsmaxima zeigt, erkennt man Maxima des Linescans f"ur $d_v=10$ (rot) erst bei h"oheren Frequenzen. Am wohl auff"alligsten ist dabei der Peak bei $f_z \approx 0,14 nm^{-1}$. - Dies entspricht einer Wellenl"ange von ungef"ahr $7,14 nm$. + Dies entspricht einer Wellenl"ange von ungef"ahr $7,1 nm$. \subsection{Einfluss der Druckspannungen} @@ -277,7 +269,7 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis In Abbildung \ref{img:dose_devel} $d)$ ist die Schichtdicke nach einer Dosis von $4,3 \times 10^{17} cm^{-2}$ auf grob $200 nm$ angewachsen. Die lamellare Struktur wird deutlicher und der Tiefenbereich in dem sie vorkommen gr"osser. - Ausserdem werden die \linebreak[4] amorph/kristallinen Grenzfl"achen sch"arfer. + Ausserdem werden die amorph/kristallinen Grenzfl"achen sch"arfer. Dieses Ergebnis stimmt sehr gut mit der Simulation "uberein. Zum einen w"achst die Schichtdicke im gleichem Ma"se an. Weiterhin werden die lamellaren Strukturen besser erkennbar und ihre Ausdehnung in $z$-Richtung steigt an. diff --git a/nlsop/diplom/simulation.tex b/nlsop/diplom/simulation.tex index 7a32db8..ea4ff89 100644 --- a/nlsop/diplom/simulation.tex +++ b/nlsop/diplom/simulation.tex @@ -2,7 +2,7 @@ \label{chapter:simulation} Im Folgenden soll die Implementation der Monte-Carlo-Simulation nach dem vorangegangen Modell diskutiert werden. -Die Simulation tr"agt den Namen {\em nlsop}, was f"ur die Schlagw"orter {\bf N}ano, {\bf L}amellar und {\bf S}elbst{\bf O}ragnisations{\bf P}rozess steht. +Die Simulation tr"agt den Namen {\em NLSOP}, was f"ur die Schlagw"orter {\bf N}ano, {\bf L}amellar und {\bf S}elbst{\bf O}ragnisations{\bf P}rozess steht. Die Simulation ist in der Programmiersprache {\em C} \cite{kerningham_ritchie} geschrieben. Der Simulationscode wurde auf Computern der {\em IA32}-Rechnerarchitektur mit dem {\em GNU C Compiler} auf einem Linux Bestriebssystem "ubersetzt und betrieben. -- 2.20.1