\bibitem{lss} J. Lindhard, M. Scharff. Phys. Rev. 124 (1961) 128.
\bibitem{bethe_bloch} F. Bloch. Ann. der Physik, 16 (1933) 287.
\bibitem{lss_2} J. Lindhard, M. Scharff, H. E. Schiott. Kgl. Danske. Videnskab. Selskab., Mat.-Fys. Medd. 33 (1963) Nr. 14.
- \bibitem{brice1} D. K. Brice. Appl. Phys. Lett. 16 (1970) 103.
- \bibitem{brice2} D. K. Brice. Ion Implantation Range and Energy Deposition Distribution. IFI Plenum, New York 1975.
- \bibitem{stein_vook_borders} H. J. Stein, F. L. Vook, J. A. Borders. Appl. Phys. Lett. 16 (1970) 106.
\bibitem{kinchin_pease} G. H. Kinchin, R. S. Pease. Rep. Progr. Phys. 18 (1955) 1.
+ \bibitem{jackson} K. A. Jackson. J. Mater. Res. 3 (1988) 1218.
+ \bibitem{spinella} C. Spinella, F. Priolo, R. A. Puglisi, S. Lombardo, S. U. Campisano. Nucl. Instr. and Meth. B 120 (1996) 198.
+ \bibitem{vook} F. L. Vook in: Radiation Damage and Defects in Semiconductors, ed. by J. E. Whitehouse. Inst. of Phys., London 1972, pp 60.
+ \bibitem{morehead_crowder} F. F. Morehead, B. L. Crowder. Rad. Eff. 6 (1970) 27.
+ \bibitem{gibbons} J. F. Gibbons. Proc. IEEE, Vol. 60, No. 9 (1972) 1062.
+ \bibitem{dennis_hale} J. R. Dennis, E. B. Hale. J. Appl. Phys. 49 (3) (1978) 1119.
+ \bibitem{hecking1} N. Hecking. Diplomarbeit. Universit"at Dortmund. 1978.
+ \bibitem{hecking2} N. Hecking, K. F. Heidemann, E. te Kaat. Nucl. Instr. and Meth. B 15 (1986) 760.
\bibitem{biersack_haggmark} J. P. Biersack, L. Haggmark. Nucl. Instr. and Meth. B 174 (1980) 257
\bibitem{lindner_appl_phys} J. K. N. Lindner. Appl. Phys. A 77 (2003) 27.
\bibitem{linnross} J. Linnross, R. G. Elliman, W. L. Brown. J. Matter. Res. 3 (1988) 1208.