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index 7c8e4869b3c92c2f7d3bc8e67d45be95840608db..8d2bb08356949e838730356353ee599fae543f80 100644 (file)
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@@ -492,6 +492,16 @@ Im Anschluss werden die Simulationen "uber den gesamten Implantationsbereich dis
     Dies sollte zur Bildung amorpher Lamellen f"uhren.
     Wird gen"ugend lang implantiert, tr"agt die Diffusion des Kohlenstoffs zur Stabilisierung der amorphen Ausscheidungen bei.
 
+    F"ur die Simulation werden dazu die Werte f"ur die Gewichtung der Amorphisierungsbeitr"age aus Abschnitt \ref{subsection:reproduced_dose} "ubernommen, da das gleiche Materialsystem beschrieben wird.
+    Ausserdem wird das alte Bremskraft- und Implantationsprofil durch das Profil in Abbildung \ref{img:nel_2mev} und \ref{img:impl_2mev} ersetzt.
+    Im Gegensatz zur nuklearen Bremskraft spielt das Implantationsprofil eine untergeordnete Rolle, weshalb auf ein Anfitten der Kurve verzichtet werden kann.
+    Es werden nur sehr wenige Ionen im betrachteten Bereich inkorporiert.
+    Auf Grund der h"oheren Energie verursachen die Ionen durchschnittlich weniger Kollisionen in dem betrachteten Tiefenbereich von $0$ bis $700 nm$.
+    Nach Auswertung der {\em TRIM}-Datei trifft das Ion durchschnittlich ungef"ahr $20$ Zellen des Simulationsfensters.
+    Die Sputter-Routine wird nicht ausgef"uhrt, was allerdings keine gro"se Auswirkung auf das Ergebnis hat, da die nukleare Bremskraft im relevanten Bereich nahezu konstant ist.
+    Der einzige Unterschied zum Experiment sollte der Tiefenunterschied der amorphen Ausscheidungen sein, nicht aber deren Ausdehnung und Struktur.
+    Unter der Annahme, dass die Implantation mit der selben 
+
     \begin{figure}[h]
     %\includegraphics[width=12cm]{2nd_impl_4_3.eps}
     EDIT: hier kommt die dosisentwicklung der 2ten implantation hin!