finished sic ssmbe (hopefully!)
[lectures/latex.git] / bibdb / bibdb.bib
index 37dc288..b10d713 100644 (file)
   notes =        "virial derivation for 3-body tersoff potential",
 }
 
+@Article{nielsen83,
+  title =        "First-Principles Calculation of Stress",
+  author =       "O. H. Nielsen and Richard M. Martin",
+  journal =      "Phys. Rev. Lett.",
+  volume =       "50",
+  number =       "9",
+  pages =        "697--700",
+  numpages =     "3",
+  year =         "1983",
+  month =        feb,
+  doi =          "10.1103/PhysRevLett.50.697",
+  publisher =    "American Physical Society",
+  notes =        "generalization of virial theorem",
+}
+
+@Article{nielsen85,
+  title =        "Quantum-mechanical theory of stress and force",
+  author =       "O. H. Nielsen and Richard M. Martin",
+  journal =      "Phys. Rev. B",
+  volume =       "32",
+  number =       "6",
+  pages =        "3780--3791",
+  numpages =     "11",
+  year =         "1985",
+  month =        sep,
+  doi =          "10.1103/PhysRevB.32.3780",
+  publisher =    "American Physical Society",
+  notes =        "dft virial stress and forces",
+}
+
 @Article{moissan04,
   author =       "Henri Moissan",
   title =        "Nouvelles recherches sur la météorité de Cañon
   author =       "W. Wesch",
 }
 
+@Article{davis91,
+  author =       "R. F. Davis and G. Kelner and M. Shur and J. W.
+                 Palmour and J. A. Edmond",
+  journal =      "Proceedings of the IEEE",
+  title =        "Thin film deposition and microelectronic and
+                 optoelectronic device fabrication and characterization
+                 in monocrystalline alpha and beta silicon carbide",
+  year =         "1991",
+  month =        may,
+  volume =       "79",
+  number =       "5",
+  pages =        "677--701",
+  keywords =     "HBT;LED;MESFET;MOSFET;Schottky contacts;Schottky
+                 diode;SiC;dry etching;electrical
+                 contacts;etching;impurity incorporation;optoelectronic
+                 device fabrication;solid-state devices;surface
+                 chemistry;Schottky effect;Schottky gate field effect
+                 transistors;Schottky-barrier
+                 diodes;etching;heterojunction bipolar
+                 transistors;insulated gate field effect
+                 transistors;light emitting diodes;semiconductor
+                 materials;semiconductor thin films;silicon compounds;",
+  doi =          "10.1109/5.90132",
+  ISSN =         "0018-9219",
+  notes =        "sic growth methods",
+}
+
 @Article{morkoc94,
   author =       "H. Morko\c{c} and S. Strite and G. B. Gao and M. E.
                  Lin and B. Sverdlov and M. Burns",
   notes =        "blue light emitting diodes (led)",
 }
 
+@Article{powell87_2,
+  author =       "J. A. Powell and L. G. Matus and M. A. Kuczmarski and
+                 C. M. Chorey and T. T. Cheng and P. Pirouz",
+  collaboration = "",
+  title =        "Improved beta-Si{C} heteroepitaxial films using
+                 off-axis Si substrates",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1987",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "51",
+  number =       "11",
+  pages =        "823--825",
+  keywords =     "VAPOR PHASE EPITAXY; SILICON CARBIDES; VAPOR DEPOSITED
+                 COATINGS; SILICON; EPITAXIAL LAYERS; INTERFACE
+                 STRUCTURE; SURFACE STRUCTURE; FILM GROWTH; STACKING
+                 FAULTS; CRYSTAL DEFECTS; ANTIPHASE BOUNDARIES;
+                 OXIDATION; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ROUGHNESS",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/51/823/1",
+  doi =          "10.1063/1.98824",
+  notes =        "improved sic on off-axis si substrates, reduced apbs",
+}
+
+@Article{ueda90,
+  title =        "Crystal growth of Si{C} by step-controlled epitaxy",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "104",
+  number =       "3",
+  pages =        "695--700",
+  year =         "1990",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(90)90013-B",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46CC6CX-KN/2/d5184c7bd29063985f7d1dd4112b12c9",
+  author =       "Tetsuzo Ueda and Hironori Nishino and Hiroyuki
+                 Matsunami",
+  notes =        "step-controlled epitaxy model",
+}
+
 @Article{kimoto93,
   author =       "Tsunenobu Kimoto and Hironori Nishino and Woo Sik Yoo
                  and Hiroyuki Matsunami",
   notes =        "cvd of 6h-sic on 6h-sic, twinned 3c-sic",
 }
 
+@Article{powell90_2,
+  author =       "J. A. Powell and D. J. Larkin and L. G. Matus and W.
+                 J. Choyke and J. L. Bradshaw and L. Henderson and M.
+                 Yoganathan and J. Yang and P. Pirouz",
+  collaboration = "",
+  title =        "Growth of high quality 6{H}-Si{C} epitaxial films on
+                 vicinal (0001) 6{H}-Si{C} wafers",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1990",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "56",
+  number =       "15",
+  pages =        "1442--1444",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SORPTIVE
+                 PROPERTIES; WAFERS; CARRIER DENSITY; CARRIER MOBILITY;
+                 TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; CRYSTAL DEFECTS;
+                 DISLOCATIONS; PHOTOLUMINESCENCE; VAPOR PHASE EPITAXY",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/56/1442/1",
+  doi =          "10.1063/1.102492",
+  notes =        "cvd of 6h-sic on 6h-sic",
+}
+
+@Article{kong88_2,
+  author =       "H. S. Kong and J. T. Glass and R. F. Davis",
+  collaboration = "",
+  title =        "Chemical vapor deposition and characterization of
+                 6{H}-Si{C} thin films on off-axis 6{H}-Si{C}
+                 substrates",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1988",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "64",
+  number =       "5",
+  pages =        "2672--2679",
+  keywords =     "THIN FILMS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; VAPOR DEPOSITED
+                 COATINGS; SILICON CARBIDES; TRANSMISSION ELECTRON
+                 MICROSCOPY; MONOCRYSTALS; MORPHOLOGY; CRYSTAL
+                 STRUCTURE; CRYSTAL DEFECTS; CARRIER DENSITY; VAPOR
+                 PHASE EPITAXY; CRYSTAL ORIENTATION",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/64/2672/1",
+  doi =          "10.1063/1.341608",
+}
+
 @Article{powell90,
   author =       "J. A. Powell and D. J. Larkin and L. G. Matus and W.
                  J. Choyke and J. L. Bradshaw and L. Henderson and M.
   notes =        "cvd of 3c-sic on 6h-sic",
 }
 
+@Article{kong88,
+  author =       "H. S. Kong and B. L. Jiang and J. T. Glass and G. A.
+                 Rozgonyi and K. L. More",
+  collaboration = "",
+  title =        "An examination of double positioning boundaries and
+                 interface misfit in beta-Si{C} films on alpha-Si{C}
+                 substrates",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1988",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "63",
+  number =       "8",
+  pages =        "2645--2650",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; INTERFACES; SILICON; STACKING
+                 FAULTS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; EPITAXY; THIN
+                 FILMS; OPTICAL MICROSCOPY; TOPOGRAPHY; NUCLEATION;
+                 MORPHOLOGY; ROTATION; SURFACE STRUCTURE; INTERFACE
+                 STRUCTURE; XRAY TOPOGRAPHY; EPITAXIAL LAYERS",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/63/2645/1",
+  doi =          "10.1063/1.341004",
+}
+
+@Article{powell91,
+  author =       "J. A. Powell and J. B. Petit and J. H. Edgar and I. G.
+                 Jenkins and L. G. Matus and J. W. Yang and P. Pirouz
+                 and W. J. Choyke and L. Clemen and M. Yoganathan",
+  collaboration = "",
+  title =        "Controlled growth of 3{C}-Si{C} and 6{H}-Si{C} films
+                 on low-tilt-angle vicinal (0001) 6{H}-Si{C} wafers",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1991",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "59",
+  number =       "3",
+  pages =        "333--335",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; SURFACE TREATMENTS; SORPTIVE
+                 PROPERTIES; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MATHEMATICAL
+                 MODELS; CRYSTAL STRUCTURE; VERY HIGH TEMPERATURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/59/333/1",
+  doi =          "10.1063/1.105587",
+}
+
 @Article{yuan95,
   author =       "C. Yuan and A. J. Steckl and J. Chaudhuri and R.
                  Thokala and M. J. Loboda",
   notes =        "3c-sic on 6h-sic, cvd, reduced temperature",
 }
 
+@Article{kaneda87,
+  title =        "{MBE} growth of 3{C}·Si{C}/6·Si{C} and the electric
+                 properties of its p-n junction",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "81",
+  number =       "1-4",
+  pages =        "536--542",
+  year =         "1987",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(87)90449-0",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46X9W77-3F/2/864b2d86faa794252e1d1f16c99a9cf1",
+  author =       "Shigeo Kaneda and Yoshiki Sakamoto and Tadashi Mihara
+                 and Takao Tanaka",
+  notes =        "first time ssmbe of 3c-sic on 6h-sic",
+}
+
 @Article{fissel95,
   title =        "Epitaxial growth of Si{C} thin films on Si-stabilized
                  [alpha]-Si{C}(0001) at low temperatures by solid-source
   notes =        "mbe 3c-sic on si and 6h-sic",
 }
 
+@Article{fissel96,
+  author =       "Andreas Fissel and Ute Kaiser and Kay Pfennighaus and
+                 Bernd Schr{\"{o}}ter and Wolfgang Richter",
+  collaboration = "",
+  title =        "Growth of 6{H}--Si{C} on 6{H}--Si{C}(0001) by
+                 migration enhanced epitaxy controlled to an atomic
+                 level using surface superstructures",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1996",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "68",
+  number =       "9",
+  pages =        "1204--1206",
+  keywords =     "MICROSTRUCTURE; MOLECULAR BEAM EPITAXY; MORPHOLOGY;
+                 NUCLEATION; SILICON CARBIDES; SURFACE RECONSTRUCTION;
+                 SURFACE STRUCTURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/68/1204/1",
+  doi =          "10.1063/1.115969",
+  notes =        "ss mbe sic, superstructure, reconstruction",
+}
+
+@Article{righi03,
+  title =        "Ab initio Simulations of Homoepitaxial Si{C} Growth",
+  author =       "M. C. Righi and C. A. Pignedoli and R. Di Felice and
+                 C. M. Bertoni and A. Catellani",
+  journal =      "Phys. Rev. Lett.",
+  volume =       "91",
+  number =       "13",
+  pages =        "136101",
+  numpages =     "4",
+  year =         "2003",
+  month =        sep,
+  doi =          "10.1103/PhysRevLett.91.136101",
+  publisher =    "American Physical Society",
+  notes =        "dft calculations mbe sic growth",
+}
+
 @Article{borders71,
   author =       "J. A. Borders and S. T. Picraux and W. Beezhold",
   collaboration = "",
                  model, interface",
 }
 
+@Article{kitabatake97,
+  author =       "Makoto Kitabatake",
+  title =        "Simulations and Experiments of 3{C}-Si{C}/Si
+                 Heteroepitaxial Growth",
+  publisher =    "WILEY-VCH Verlag",
+  year =         "1997",
+  journal =      "physica status solidi (b)",
+  volume =       "202",
+  pages =        "405--420",
+  URL =          "http://dx.doi.org/10.1002/1521-3951(199707)202:1<405::AID-PSSB405>3.0.CO;2-5",
+  doi =          "10.1002/1521-3951(199707)202:1<405::AID-PSSB405>3.0.CO;2-5",
+  notes =        "3c-sic heteroepitaxial growth on si off-axis model",
+}
+
 @Article{chirita97,
   title =        "Strain relaxation and thermal stability of the
                  3{C}-Si{C}(001)/Si(001) interface: {A} molecular
   doi =          "10.1063/1.121136",
   notes =        "micropipe free 6h-sic pvt growth",
 }
+
+@Article{pirouz87,
+  author =       "P. Pirouz and C. M. Chorey and J. A. Powell",
+  collaboration = "",
+  title =        "Antiphase boundaries in epitaxially grown beta-Si{C}",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1987",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "50",
+  number =       "4",
+  pages =        "221--223",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; DOMAIN STRUCTURE; SCANNING ELECTRON
+                 MICROSCOPY; NUCLEATION; EPITAXIAL LAYERS; CHEMICAL
+                 VAPOR DEPOSITION; ETCHING; ETCH PITS; TRANSMISSION
+                 ELECTRON MICROSCOPY; ELECTRON MICROSCOPY; ANTIPHASE
+                 BOUNDARIES",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/50/221/1",
+  doi =          "10.1063/1.97667",
+  notes =        "apb 3c-sic heteroepitaxy on si",
+}
+
+@Article{shibahara86,
+  title =        "Surface morphology of cubic Si{C}(100) grown on
+                 Si(100) by chemical vapor deposition",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "78",
+  number =       "3",
+  pages =        "538--544",
+  year =         "1986",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(86)90158-2",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46D26F7-1R/2/cfdbc7607352f3bc99d321303e3934e9",
+  author =       "Kentaro Shibahara and Shigehiro Nishino and Hiroyuki
+                 Matsunami",
+  notes =        "defects in 3c-sis cvd on si, anti phase boundaries",
+}
+
+@Article{desjardins96,
+  author =       "P. Desjardins and J. E. Greene",
+  collaboration = "",
+  title =        "Step-flow epitaxial growth on two-domain surfaces",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1996",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "79",
+  number =       "3",
+  pages =        "1423--1434",
+  keywords =     "ADATOMS; COMPUTERIZED SIMULATION; DIFFUSION; EPITAXY;
+                 FILM GROWTH; SURFACE STRUCTURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/79/1423/1",
+  doi =          "10.1063/1.360980",
+  notes =        "apb model",
+}
+
+@Article{henke95,
+  author =       "S. Henke and B. Stritzker and B. Rauschenbach",
+  collaboration = "",
+  title =        "Synthesis of epitaxial beta-Si{C} by {C}[sub 60]
+                 carbonization of silicon",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1995",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "78",
+  number =       "3",
+  pages =        "2070--2073",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; THIN FILMS; EPITAXY; CARBONIZATION;
+                 FULLERENES; ANNEALING; XRD; RBS; TWINNING; CRYSTAL
+                 STRUCTURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/78/2070/1",
+  doi =          "10.1063/1.360184",
+  notes =        "ssmbe of sic on si, lower temperatures",
+}
+
+@Article{fuyuki89,
+  title =        "Atomic layer epitaxy of cubic Si{C} by gas source
+                 {MBE} using surface superstructure",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "95",
+  number =       "1-4",
+  pages =        "461--463",
+  year =         "1989",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(89)90442-9",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46DFS6F-GF/2/a8e0abaef892c6d96992ff4751fdeda2",
+  author =       "Takashi Fuyuki and Michiaki Nakayama and Tatsuo
+                 Yoshinobu and Hiromu Shiomi and Hiroyuki Matsunami",
+  notes =        "gas source mbe of 3c-sic on 6h-sic",
+}
+
+@Article{yoshinobu92,
+  author =       "Tatsuo Yoshinobu and Hideaki Mitsui and Iwao Izumikawa
+                 and Takashi Fuyuki and Hiroyuki Matsunami",
+  collaboration = "",
+  title =        "Lattice-matched epitaxial growth of single crystalline
+                 3{C}-Si{C} on 6{H}-Si{C} substrates by gas source
+                 molecular beam epitaxy",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1992",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "60",
+  number =       "7",
+  pages =        "824--826",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; HOMOJUNCTIONS; MOLECULAR BEAM
+                 EPITAXY; TWINNING; RHEED; TEMPERATURE EFFECTS;
+                 INTERFACE STRUCTURE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/60/824/1",
+  doi =          "10.1063/1.107430",
+  notes =        "gas source mbe of 3c-sic on 6h-sic",
+}
+
+@Article{yoshinobu90,
+  title =        "Atomic level control in gas source {MBE} growth of
+                 cubic Si{C}",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "99",
+  number =       "1-4",
+  pages =        "520--524",
+  year =         "1990",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(90)90575-6",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-46YKT9W-HY/2/04dd57af2f42ee620895844e480a2736",
+  author =       "Tatsuo Yoshinobu and Michiaki Nakayama and Hiromu
+                 Shiomi and Takashi Fuyuki and Hiroyuki Matsunami",
+  notes =        "gas source mbe of 3c-sic on 3c-sic",
+}
+
+@Article{fuyuki93,
+  title =        "Atomic layer epitaxy controlled by surface
+                 superstructures in Si{C}",
+  journal =      "Thin Solid Films",
+  volume =       "225",
+  number =       "1-2",
+  pages =        "225--229",
+  year =         "1993",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0040-6090",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0040-6090(93)90159-M",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TW0-46NY79X-40/2/c9675e1d8c4bcebc7ce7d06e44e14f1f",
+  author =       "Takashi Fuyuki and Tatsuo Yoshinobu and Hiroyuki
+                 Matsunami",
+  notes =        "gas source mbe of 3c-sic on 3c-sic, atomic layer
+                 epitaxy, ale",
+}
+
+@Article{hara93,
+  title =        "Microscopic mechanisms of accurate layer-by-layer
+                 growth of [beta]-Si{C}",
+  journal =      "Thin Solid Films",
+  volume =       "225",
+  number =       "1-2",
+  pages =        "240--243",
+  year =         "1993",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0040-6090",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0040-6090(93)90162-I",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TW0-46NY79X-43/2/18694bfe0e75b1f29a3cf5f90d19987c",
+  author =       "Shiro Hara and T. Meguro and Y. Aoyagi and M. Kawai
+                 and S. Misawa and E. Sakuma and S. Yoshida",
+  notes =        "gas source mbe of 3c-sic on 3c-sic, atomic layer
+                 epitaxy, ale",
+}
+
+@Article{tanaka94,
+  author =       "Satoru Tanaka and R. Scott Kern and Robert F. Davis",
+  collaboration = "",
+  title =        "Effects of gas flow ratio on silicon carbide thin film
+                 growth mode and polytype formation during gas-source
+                 molecular beam epitaxy",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1994",
+  journal =      "Applied Physics Letters",
+  volume =       "65",
+  number =       "22",
+  pages =        "2851--2853",
+  keywords =     "SILICON CARBIDES; MOLECULAR BEAM EPITAXY; RHEED;
+                 TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; MORPHOLOGY;
+                 NUCLEATION; COALESCENCE; SURFACE RECONSTRUCTION; GAS
+                 FLOW; FLOW RATE",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?APL/65/2851/1",
+  doi =          "10.1063/1.112513",
+  notes =        "gas source mbe of 6h-sic on 6h-sic",
+}
+
+@Article{fuyuki97,
+  author =       "T. Fuyuki and T. Hatayama and H. Matsunami",
+  title =        "Heterointerface Control and Epitaxial Growth of
+                 3{C}-Si{C} on Si by Gas Source Molecular Beam Epitaxy",
+  publisher =    "WILEY-VCH Verlag",
+  year =         "1997",
+  journal =      "physica status solidi (b)",
+  volume =       "202",
+  pages =        "359--378",
+  notes =        "3c-sic heteroepitaxial growth on si by gsmbe, lower
+                 temperatures 750",
+}
+
+@Article{takaoka98,
+  title =        "Initial stage of Si{C} growth on Si(1 0 0) surface",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "183",
+  number =       "1-2",
+  pages =        "175--182",
+  year =         "1998",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/S0022-0248(97)00391-6",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-3W8STD4-V/2/8de695de037d5e20b8326c4107547918",
+  author =       "T. Takaoka and H. Saito and Y. Igari and I. Kusunoki",
+  keywords =     "Reflection high-energy electron diffraction (RHEED)",
+  keywords =     "Scanning electron microscopy (SEM)",
+  keywords =     "Silicon carbide",
+  keywords =     "Silicon",
+  keywords =     "Island growth",
+  notes =        "lower temperature, 550-700",
+}
+
+@Article{hatayama95,
+  title =        "Low-temperature heteroepitaxial growth of cubic Si{C}
+                 on Si using hydrocarbon radicals by gas source
+                 molecular beam epitaxy",
+  journal =      "Journal of Crystal Growth",
+  volume =       "150",
+  number =       "Part 2",
+  pages =        "934--938",
+  year =         "1995",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0022-0248",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0022-0248(95)80077-P",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TJ6-47RY2F6-1P/2/49acd5c4545dd9fd3486f70a6c25586e",
+  author =       "Tomoaki Hatayama and Yoichiro Tarui and Takashi Fuyuki
+                 and Hiroyuki Matsunami",
+}
+
+@Article{heine91,
+  author =       "Volker Heine and Ching Cheng and Richard J. Needs",
+  title =        "The Preference of Silicon Carbide for Growth in the
+                 Metastable Cubic Form",
+  journal =      "Journal of the American Ceramic Society",
+  volume =       "74",
+  number =       "10",
+  publisher =    "Blackwell Publishing Ltd",
+  ISSN =         "1551-2916",
+  URL =          "http://dx.doi.org/10.1111/j.1151-2916.1991.tb06811.x",
+  doi =          "10.1111/j.1151-2916.1991.tb06811.x",
+  pages =        "2630--2633",
+  keywords =     "silicon carbide, crystal growth, crystal structure,
+                 calculations, stability",
+  year =         "1991",
+  notes =        "3c-sic metastable, 3c-sic preferred growth, sic
+                 polytype dft calculation refs",
+}
+
+@Article{allendorf91,
+  title =        "The adsorption of {H}-atoms on polycrystalline
+                 [beta]-silicon carbide",
+  journal =      "Surface Science",
+  volume =       "258",
+  number =       "1-3",
+  pages =        "177--189",
+  year =         "1991",
+  note =         "",
+  ISSN =         "0039-6028",
+  doi =          "DOI: 10.1016/0039-6028(91)90912-C",
+  URL =          "http://www.sciencedirect.com/science/article/B6TVX-46T3BSB-24V/2/534f1f4786088ceb88b6d31eccb096b3",
+  author =       "Mark D. Allendorf and Duane A. Outka",
+  notes =        "h adsorption on 3c-sic",
+}
+
+@Article{eaglesham93,
+  author =       "D. J. Eaglesham and F. C. Unterwald and H. Luftman and
+                 D. P. Adams and S. M. Yalisove",
+  collaboration = "",
+  title =        "Effect of {H} on Si molecular-beam epitaxy",
+  publisher =    "AIP",
+  year =         "1993",
+  journal =      "Journal of Applied Physics",
+  volume =       "74",
+  number =       "11",
+  pages =        "6615--6618",
+  keywords =     "SILICON; MOLECULAR BEAM EPITAXY; HYDROGEN; SURFACE
+                 CONTAMINATION; SIMS; SEGREGATION; IMPURITIES;
+                 DIFFUSION; ADSORPTION",
+  URL =          "http://link.aip.org/link/?JAP/74/6615/1",
+  doi =          "10.1063/1.355101",
+  notes =        "h incorporation on si surface, lower surface
+                 mobility",
+}