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 \begin{abstract}
 Atomistic simulations on the silicon carbide precipitation in bulk silicon employing both, classical potential and first-principles methods are presented.
-These aime to clarify a controversy concerning the precipitation mechanism as revealed from literature.
+%These aime to clarify a controversy concerning the precipitation mechanism as revealed from literature.
+The calculations aim at a comprehensive, microscopic understanding of the precipitation mechanism in the context of controversial discussions in the literature.
 %
 For the quantum-mechanical treatment, basic processes assumed in the precipitation process are calculated in feasible systems of small size.
 The migration mechanism of a carbon \hkl<1 0 0> interstitial and silicon \hkl<1 1 0> self-interstitial in otherwise defect-free silicon using density functional theory calculations are investigated.
@@ -47,6 +48,7 @@ The formation of structures involving strong carbon-carbon bonds turns out to be
 In contrast, substitutional carbon occurs in all probability.
 A long range capture radius has been observed for pairs of interstitial carbon as well as interstitial carbon and vacancies.
 A rather small capture radius is predicted for substitutional carbon and silicon self-interstitials.
+%
 We derive conclusions on the precipitation mechanism of silicon carbide in bulk silicon and discuss conformability to experimental findings.
 %
 Furthermore, results of the accurate first-principles calculations on defects and carbon diffusion in silicon are compared to results of classical potential simulations revealing significant limitations of the latter method.
@@ -124,6 +126,7 @@ Furthermore, highly accurate quantum-mechanical results have been used to identi
 
 %  --------------------------------------------------------------------------------
 \section{Methodology}
+\label{meth}
 % ----- DFT ------
 The first-principles DFT calculations have been performed with the plane-wave based Vienna ab initio Simulation package (VASP)\cite{kresse96}.
 The Kohn-Sham equations were solved using the generalized-gradient exchange-correlation functional approximation proposed by Perdew and Wang\cite{perdew86,perdew92}.
@@ -756,7 +759,7 @@ Thus, a proper description with respect to the relative energies of formation is
 \label{sec:md}
 
 The MD technique is used to gain insight into the behavior of C existing in different concentrations in c-Si on the microscopic level at finite temperatures.
-Simulations are restricted to classical potential simulations.
+Simulations are restricted to classical potential simulations using the procedure introduced in section \ref{meth}.
 In a first step, simulations are performed, which try to mimic the conditions during IBS.
 Results reveal limitations of the employed potential and MD in general.
 With reference to the results of the last section, a workaround is discussed.