small minor changes
[lectures/latex.git] / posic / talks / seminar_2008.tex
index 19dad6b..30efd76 100644 (file)
   \item gro"se Bandl"ucke (3C: 2.39 eV, 4H: 3.28 eV, 6H: 3.03 eV)
   \item hohe mechanische Stabilit"at
   \item gute Ladungstr"agermobilit"at
-  \item sp"ate S"attigung der Elektronen-Driftgeschwindigkeit
+  \item hohe S"attigungselektronendriftgeschwindigkeit
   \item hohe Durchbruchfeldst"arke
   \item chemisch inerte Substanz
   \item hohe thermische Leitf"ahigkeit und Stabilit"at
   \item Optoelektronik (blaue LEDs), Sensoren
   \item Kandidat f"ur Tr"ager und W"ande in Fusionsreaktoren
   \item Luft- und Raumfahrtindustrie, Milit"ar
-  \item kohlenfaserverst"arkte SiC-Verbundkeramik
+  \item Micro-Electro-Mechanical System (MEMS)
  \end{itemize}
 
  }
 
- \begin{picture}(0,0)(-280,-150)
-  %\includegraphics[width=4cm]{sic_inverter_ise.eps} 
+ \begin{picture}(0,0)(-255,-125)
+  \includegraphics[width=4cm]{sic_wechselrichter_ise.eps} 
  \end{picture}
- \begin{picture}(0,0)(-280,-20)
-  %\includegraphics[width=4cm]{cc_sic_brake_dlr.eps} 
+ \begin{picture}(0,0)(-251,-115)
+  \begin{minipage}{4cm}
+  {\tiny DLR ISE: Inverter, $E=98.5\%$}
+  \end{minipage}
  \end{picture}
  
 \end{slide}
  \includegraphics[width=3.3cm]{tem_3c-sic.eps}
  \end{minipage}
  \begin{minipage}{9cm}
-  Bereich ums Implantationsmaximum\\
+  Bereich um das Implantationsmaximum\\
   Moir\'e-Kontrast-Muster\\
   $\rightarrow$ inkoh"arente 3C-SiC-Ausscheidungen in c-Si-Matrix
  \end{minipage}
  NN-Abstand in 3C-SiC\\
  \underline{C-C, 0.31 nm}:\\
  C-C Abstand in 3C-SiC\\
- vekettete, verschieden orientierte 100 C-Si DBs\\
+ verkettete, verschieden orientierte 100 C-Si DBs\\
  \underline{Si-Si, $\sim$ 0.31 nm}:\\
  g(r) erh"oht, Si-Si in 3C-SiC\\
  Intervall entspricht C-C Peakbreite\\
  \end{minipage}
  \begin{minipage}{6.3cm}
  \begin{center}
- Dosirate: C auf einmal hinzugef"ugt\\
+ Dosisrate: C auf einmal hinzugef"ugt\\
  \end{center}
  \includegraphics[width=5.9cm]{1250_12_notrelax_pc.ps}
  \includegraphics[width=5.9cm]{1250_12_notrelax_ba.ps}
   SiC-Ausscheidungen in Si
  }
 
+ \begin{itemize}
+  \item $10\times10\times10$ Einheitszellen 3C-SiC
+  \item Zwei $8\times8\times8$ Einheitszellen Si unter- und oberhalb
+  \item "Aquilibrierung f"ur 2 ps
+  \item Einschalten der $T$- und $p$-Kontrolle
+        ($T=0\text{ K}$, $p=0\text{ bar}$)
+ \end{itemize}
+
+ \vspace*{0.1cm}
+
+ Relaxation: \href{../video/sd_sic_in_si_01.avi}{$\rhd$}\\
+ Spannungen: \href{../video/sd_sic_in_si_01_strain.avi}{$\rhd$} 
+
+ \vspace*{0.2cm}
+
+ \begin{minipage}{5cm}
+ Initial Konfiguration\\
+ \includegraphics[width=6cm]{sd_sic_in_si_strain_01.eps}
+ \end{minipage}
+ \begin{minipage}{1cm}
+ $\rightarrow$\\
+ \end{minipage}
+ \begin{minipage}{6cm}
+ Relaxierte Konfiguration\\
+ \includegraphics[width=6.4cm]{sd_sic_in_si_strain_02.eps}
+ \end{minipage}
+
 
 \end{slide}
 
 \begin{itemize}
  \item SiC als HL-Bauelemente f"ur Anwendungen unter extremen Bedingungen
  \item Schwierigkeiten in der Herstellung d"unner SiC-Schichten
- \item Notwendigkeit den 3C-SiC-Asuscheidungsvorgang zu verstehen
+ \item Notwendigkeit den 3C-SiC-Ausscheidungsvorgang zu verstehen
 \end{itemize}
 
 \vspace{8pt}
 \begin{itemize}
  \item Zwischengitterkonfigurationen
  \item Suche nach SiC-Ausscheidungsbedingungen
- \item Untersuchungen zu selbst konstruierten 3C-SiC in c-Si
+ \item Untersuchungen an selbst konstruierten 3C-SiC in c-Si
 \end{itemize}
 
 \vspace{24pt}
 \begin{itemize}
  \item Neue Versuche, neue Kombinationen
  \item W"armebad koppelt nur an Randatome der Simulationszelle
+ \item TAD
  \item Alternative Potentiale (SW, mod. Tersoff)
+ \item Weitere Untersuchungen an selbst konstruierten Ausscheidungen
 \end{itemize}
 
 \end{slide}