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index f2952f1..98337ee 100644 (file)
@@ -243,11 +243,11 @@ Unfortunately the EA potential undervalues the formation energy roughly by a fac
 Except for Tersoff's results for the tetrahedral configuration, the \ci{} \hkl<1 0 0> DB is the energetically most favorable interstitial configuration.
 As mentioned above, the low energy of formation for the tetrahedral interstitial in the case of the Tersoff potential is believed to be an artifact of the abrupt cut-off set to \unit[2.5]{\AA} (see Ref. 11 and 13 in \cite{tersoff90}) and the real formation energy is, thus, supposed to be located between \unit[3--10]{eV}.
 Keeping these considerations in mind, the \ci{} \hkl<1 0 0> DB is the most favorable interstitial configuration for all interaction models.
-This finding is in agreement with several theoretical\cite{burnard93,leary97,dal_pino93,capaz94,jones04} and experimental\cite{watkins76,song90} investigations, which all predict this configuration to be the ground state.
+This finding is in agreement with several theoretical~\cite{burnard93,leary97,dal_pino93,capaz94,jones04} and experimental~\cite{watkins76,song90} investigations, which all predict this configuration to be the ground state.
 However, no energy of formation for this type of defect based on first-principles calculations has yet been explicitly stated in literature.
 The defect is frequently generated in the classical potential simulation runs, in which C is inserted at random positions in the c-Si matrix.
 In quantum-mechanical simulations the unstable tetrahedral and hexagonal configurations undergo a relaxation into the \ci{} \hkl<1 0 0> DB configuration.
-Thus, this configuration is of great importance and discussed in more detail in section \ref{subsection:100db}.
+Thus, this configuration is of great importance and discussed in more detail in section~\ref{subsection:100db}.
 It should be noted that EA and DFT predict almost equal formation energies.
 
 The highest energy is observed for the hexagonal interstitial configuration using classical potentials.
@@ -344,7 +344,7 @@ Angles\\
 \hline
 \end{tabular}\\[0.5cm]
 \end{center}
-\caption[Atomic displacements, distances and bond angles of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{posic} and {\textsc vasp} calculations.]{Atomic displacements, distances and bond angles of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by {\textsc posic} and {\textsc vasp} calculations. The displacements and distances are given in nm and the angles are given in degrees. Displacements, distances and angles are schematically displayed in Fig.~\ref{fig:defects:100db_cmp}. In addition, the equilibrium lattice constant for crystalline Si is listed.}
+\caption[Atomic displacements, distances and bond angles of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{posic} and \textsc{vasp} calculations.]{Atomic displacements, distances and bond angles of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{posic} and \textsc{vasp} calculations. The displacements and distances are given in nm and the angles are given in degrees. Displacements, distances and angles are schematically displayed in Fig.~\ref{fig:defects:100db_cmp}. In addition, the equilibrium lattice constant for crystalline Si is listed.}
 \label{tab:defects:100db_cmp}
 \end{table}%
 \begin{figure}[tp]
@@ -362,7 +362,7 @@ Angles\\
 \end{center}
 \end{minipage}
 \end{center}
-\caption{Comparison of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structures obtained by \textsc{posic} and {\textsc vasp} calculations.}
+\caption{Comparison of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structures obtained by \textsc{posic} and \textsc{vasp} calculations.}
 \label{fig:defects:100db_vis_cmp}
 \end{figure}%
 \begin{figure}[tp]
@@ -370,7 +370,7 @@ Angles\\
 \includegraphics[height=10cm]{c_pd_vasp/eden.eps}
 \includegraphics[height=12cm]{c_pd_vasp/100_2333_ksl.ps}
 \end{center}
-\caption[Charge density isosurface and Kohn-Sham levels of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{vasp} calculations.]{Charge density isosurface and Kohn-Sham levels of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by {\textsc vasp} calculations. Yellow and gray spheres correspond to Si and C atoms. The blue surface is the charge density isosurface. In the energy level diagram red and green lines and dots mark occupied and unoccupied states.}
+\caption[Charge density isosurface and Kohn-Sham levels of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{vasp} calculations.]{Charge density isosurface and Kohn-Sham levels of the \ci{} \hkl<1 0 0> DB structure obtained by \textsc{vasp} calculations. Yellow and gray spheres correspond to Si and C atoms. The blue surface is the charge density isosurface. In the energy level diagram red and green lines and dots mark occupied and unoccupied states.}
 \label{img:defects:charge_den_and_ksl}
 \end{figure}%
 The Si atom labeled `1' and the C atom compose the DB structure.