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joerg_pre1
authorhackbard <hackbard>
Wed, 3 Mar 2004 16:20:00 +0000 (16:20 +0000)
committerhackbard <hackbard>
Wed, 3 Mar 2004 16:20:00 +0000 (16:20 +0000)
nlsop/nlsop_dpg_2004.tex

index 922341dda81da6d8ab6390af3d9328def9b550c3..2e35a16a2c9b7a153dbc42a75f0449f46c3506e3 100644 (file)
@@ -25,6 +25,8 @@
 \input{seminar.bug}             % Official bugs corrections
 \input{seminar.bg2}             % Unofficial bugs corrections
 
+\articlemag{1}
+
 \begin{document}
 
 \extraslideheight{10in}
@@ -57,7 +59,7 @@
 \begin{figure}
  \begin{center}
   \includegraphics[width=08cm,clip,draft=no]{k393abild1.eps}
-  Hellfeld-TEM-Abbildung, $180 keV \quad C^+ \rightarrow Si(100)$, $150 \, ^{\circ} \mathrm{C}$, $4.3 \times 10^{17} cm^{-2}$
+  Hellfeld-TEM-Abbildung, $180 keV \textrm{ } C^+ \rightarrow Si(100)$, $150 \, ^{\circ} \mathrm{C}$, $4.3 \times 10^{17} cm^{-2}$
  \end{center}
 \end{figure}
 \end{slide}
@@ -66,7 +68,7 @@
 \section*{Modell}
 \begin{figure}[t]
  \begin{center}
-  \includegraphics[width=6cm]{model1_german.eps}
+  \includegraphics[width=7cm]{model1_.eps}
  \end{center}
 \end{figure}
 \begin{itemize}
@@ -74,7 +76,7 @@
  \item hohe Grenzfl"achenenergie zwischen $c-Si$ und $3C-SiC$ \\ $\rightarrow$ Ausscheidungen sind amorph
  \item $20-30\%$ geringere Dichte von amorphen zu kristallinen $SiC$ \\ $\rightarrow$ Druckspannungen auf Umgebung
  \item nahe der Oberfl"ache \\ $\rightarrow$ Relaxation der Druckspannung in $z$-Richtung
- \item Abbau der Kohlenstoff"ubers"attigung \\ $\rightarrow$ Diffusion von Kohlenstoff aus kristallinen in amorphe Gebiete
+ \item Abbau der Kohlenstoff"ubers"attigung in kristallinen Gebieten \\ $\rightarrow$ Diffusion von Kohlenstoff in amorphe Gebiete
  \item Druckspannungen \\ $\rightarrow$ bevorzugte Amorphisierung zwischen zwei amorphen Ausscheidungen
 \end{itemize}
 \end{slide}
 \section*{Annahmen/N"aherungen}
 \begin{figure}
  \begin{center}
-  \includegraphics[width=5cm]{implsim_new.eps}
-   \emph{TRIM}-Implantationsprofil und Energieversluste
+  \includegraphics[width=3cm]{implsim_new.eps}
+  \\
+  \emph{TRIM}-Implantationsprofil und Energieversluste
  \end{center}
 \end{figure}
-\end{slide}
-
-\begin{slide}
-\section*{Simulation}
 \begin{itemize}
- \item Unterteilung des Silizium-Targets in Zellen ($x=50$, $y=50$, $z=100$)
- \item Zelle enth"alt folgende Eigenschaften/Informationen:
-  \begin{itemize}
-   \item Kantenl"ange $3nm$ (Simulationsfenster ist $300nm$ tief bei $100$ Zellen)
-   \item Zustand: amorph/kristallin
-   \item Kohlenstoffkonzentration
-  \end{itemize}
- \end{itemize}
+ \item Amorphisierungswahrscheinlichkeit $\propto$ nuklearer Bremskraft
+ \item nukleare Bremskraft und Konzentrationsprofil linear gen"ahert
+ \item Amorphisierungswahrscheinlichkeit $\propto$
+  \[
+  \left\{
+   \begin{array}{ll}
+    \textrm{mittlerer nuklearer Bremskraft} & \textrm{ballistische Amorphisierung, } b_{ap} \\
+    \textrm{lokale Kohlenstoffkonzentration} & \textrm{kohlenstoffinduzierte Amorphisierung, } a_{cp} \\
+    \textrm{Druckspannungen} & \textrm{spannungsinduzierte Amorphisierung, } a_{ap}
+   \end{array} \right .
+  \]
+\end{itemize}
+\[
+ \begin{array}{ll}
+  p_{c \rightarrow a} & \displaystyle =a_{cp} \times c^{\textrm{lokal}}_{\textrm{Kohlenstoff}} + b_{ap} + \sum_{amorphe Nachbarn} \frac{a_{ap} \times c_{\textrm{Kohlenstoff}}}{\textrm{Abstand}^2}\\
+  p_{a \rightarrow c} & =1-p_{c \rightarrow a}
+ \end{array}
+\]
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
 \section*{Simulation}
+\begin{figure}
+ \begin{center}
+  \includegraphics[width=7cm]{gitter.eps}
+ \end{center}
+\end{figure}
 Dreiteilung des Simulationsalgorithmus:
 \begin{enumerate}
  \item Amorphisierung/Rekristallisation 
@@ -113,49 +127,38 @@ Dreiteilung des Simulationsalgorithmus:
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
-\section*{Simulation(1/3) - Amorphisierung/Rekristallisation}
+\section*{1) Amorphisierung/Rekristallisation}
 \begin{itemize}
- \item zuf"allige Wahl der Koordinaten f"ur Sto"sprozess
- \item Berechnung der Amorphisierungs- bzw. Rekristallisationswahrscheinlichkeit
-  \[
-    \begin{array}{ll}
-     p_{c \rightarrow a} & \displaystyle =a_{cp} \times c^{\textrm{lokal}}_{\textrm{Kohlenstoff}} + b_{ap} + \sum_{amorphe Nachbarn} \frac{a_{ap} \times c_{\textrm{Kohlenstoff}}}{\textrm{Abstand}^2}\\
-     p_{a \rightarrow c} & =1-p_{c \rightarrow a}
-   \end{array}
-  \]
-  $a_{cp}$ beschreibt kohlenstoffinduzierte Amorphisierung\\
-  $b_{ap}$ beschreibt ballistische Amorphisierung\\
-  $a_{ap}$ beschreibt spannungsinduzierte Amorphisierung
+ \item gewichtete Wahl der Koordinaten f"ur Sto"sprozess entsprechend nuklearer Bremskraft
+ \item Berechnung der lokalen Amorphisierungs- bzw. Rekristallisationswahrscheinlichkeit $p_{ca}$ und $p_{ac}$
  \item Ausw"urfeln der entscheidenden Zufallszahl
 \end{itemize}
-\end{slide}
-
-\begin{slide}
-\section*{Simulation(2/3) - \\ Einbau des implantierten Kohlenstoffions}
+\section*{2) Einbau des implantierten Kohlenstoffions}
+\begin{figure}
+ \begin{center}
+  \includegraphics[width=4cm]{sim_window.eps} 
+ \end{center}
+\end{figure}
 \begin{itemize}
  \item $\textrm{gesamter Kohlenstoff} < \textrm{steps} \times c_{ratio}$
- \item zuf"allige Wahl der Koordinaten f"ur Kohlenstofferh"ohung
+ \item gewichtete Wahl der Koordinaten f"ur Kohlenstofferh"ohung
 \end{itemize}
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
-\section*{Simulation(3/3) - Diffusion}
+\section*{3) Diffusion}
 Diffusion findet alle $d_v$ Schritte statt.
 \begin{itemize}
- \item rein kristalline Diffusion:
+ \item Diffusion im Kristallinen:
   \[
    \Delta c = \frac{\textrm{Differenz}}{2} \times dr_{cc}
   \]
- \item Diffusion von kristalline in amorphe Gebiete:
+ \item Diffusion von kristallinen in amorphe Gebiete:
   \[
    \Delta c =  c_C(Nachbar) \times dr_{ac}
   \]
 \end{itemize}
-\end{slide}
-
-\begin{slide}
-\section*{Ergebnisse}
-variierte Parameter:
+\section*{variierte Parameter}
 \begin{itemize}
  \item Schrittzahl
  \item Amorphisierung beschreibende Parameter
@@ -167,63 +170,62 @@ variierte Parameter:
 
 \begin{slide}
 \section*{Ergebnisse}
-Notwendig f"ur Bildung der lamellaren Ausscheidungen:
 \begin{itemize}
- \item hohe Schrittzahl und niedrige Amorphisierungsparameter
- \item Diffusion von Kohlenstoff von kristallinen in amorphe Gebiete, insbesondere in $z$-Richtung
-  \begin{figure}[h]
-   \begin{center}
-    \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_noZ.eps}
-    \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_Z.eps}
-    \caption{Messungen mit (rechts) und ohne (links) Diffusion von amorphen in kristalline Gebiete in $z$-Richtung}
-   \end{center}
-  \end{figure}
-\end{itemize}
+ \item Lamellare Strukturen!
+ \item Notwendig f"ur Bildung der lamellaren Ausscheidungen:
+  \begin{itemize}
+   \item hohe Schrittzahl und niedrige Amorphisierungswahrscheinlichkeiten
+   \item Diffusion von Kohlenstoff von kristallinen in amorphe Gebiete, insbesondere in $z$-Richtung
+   \begin{figure}
+    \begin{center}
+     \includegraphics[height=5cm]{mit_ohne_diff.eps}
+    \end{center}
+   \end{figure}
+  \end{itemize}
+ \end{itemize}
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
 \section*{Ergebnisse}
-Bildung komplement"ar angeordneter, amorpher kohlenstoffreicher Ausscheidungen in aufeinander folgenden Ebenen
-\begin{figure}[h]
+Amorph/Kristalline Diffusionsrate beeinflusst die Tiefe, in der erstmals lamellare Ordnung auftritt
+\begin{figure}
  \begin{center}
-  \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_Z_x-y_97.eps}
-  \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_Z_x-y_98.eps}
-  \caption{Zwei aufeinander folgende Ebenen mit komplement"ar angeordneten amorphen und kristallinen Gebieten}
+  \includegraphics[height=6cm]{high_low_ac-diff.eps}
  \end{center}
 \end{figure}
 \end{slide}
+
 \begin{slide}
 \section*{Ergebnisse}
-Die amorph/kristalline Diffusionsrate beeinflusst die Tiefe in der erstmals lamellare Ordnung auftritt
-\begin{figure}[h]
+Bildung komplement"ar angeordneter, amorpher kohlenstoffreicher Ausscheidungen in aufeinander
+folgenden Ebenen
+\begin{figure}
  \begin{center}
-  \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_Z_c-diff_x-z_21.eps}
-  \includegraphics[height=2cm]{sim2_a004_b0_Z_0.2-ac-diff_y-z_28.eps}
-  \caption{Messung mit verschiedenen amorph-kristallinen Diffusionsraten}
+  \includegraphics[height=6cm]{z_z_plus_1.eps}
  \end{center}
 \end{figure}
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
-\section*{Ergebnisse}
-Beste "Ubereinstimmung mit TEM-Aufnahme:
-\begin{figure}[t]
+\section*{Vergleich mit TEM-Aufnahme}
+\begin{figure}
  \begin{center}
-  \includegraphics[height=3.5cm]{sim2_64-64_a003_b0_no-c-diff_x-z_23-cmp-tem.eps}
-  \includegraphics[height=3.5cm]{tem-if.eps}
-  \caption{Vergleich von Simulationsergebnis und TEM-Aufnahme}
+  \includegraphics[height=6cm]{if_cmp.eps}
  \end{center}
 \end{figure}
 \end{slide}
 
 \begin{slide}
+\section*{Zusammenfassung}
+\begin{itemize}
+ \item Einfaches Modell zur Erzeugung selbstorganisierter amorpher Ausscheidungen
+ \item lamellare Strukturen durch Simulation nachvollziehbar
+\end{itemize}
 \section*{Ausblick}
 \begin{itemize}
- \item mehrere Sto"sprozesse pro Durchlauf $\rightarrow$ Durchlauf entspricht einem implantierten Ion
- \item objektivere Methode zur Messung der lamellaren Struktur (Fouriertransformierte des Realbildes)
- \item Intensivere Vergleiche mit TEM-Aufnahmen, insbesondere der Dosisentwicklung
  \item Zusammenhang zwischen Simulations- und Implantationsparametern
+ \item objektivere Methode zur Messung der lamellaren Struktur (Fouriertransformierte des Realbildes)
+ \item Vergleiche mit TEM-Aufnahmen, insbesondere der Dosisentwicklung
 \end{itemize}
 \end{slide}