aabf263616cd9c969a38f9cbcb2fd0ba410c5bb7
[lectures/latex.git] / posic / poster / emrs2008.tex
1 \documentclass[portrait,a0b,final]{a0poster}
2 \usepackage{epsf,psfig,pstricks,multicol,pst-grad,pst-node,color}
3 \usepackage{graphicx,amsmath,amssymb}
4 \graphicspath{{../img/}}
5 \usepackage[english,german]{babel}
6
7 \input{a0poster-kh}
8
9 \selectlanguage{english}
10
11 \renewcommand\labelitemii{{\color{black}$\bullet$}}
12
13 \begin{document}
14
15 % Fliessenden Hintergrund von RGB-Farbe 1. .98 .98 nach 1. .85 .85
16 % und wieder nach  1. .98 .98 (1. .85 .85 wird nach 0.1=10% des Hinter-
17 % grunds angenommen)
18 % Achtung Werte unter .8 verbrauchen zu viel Tinte!!!
19
20 %\background{.95 .95 1.}{.78 .78 1.}{0.05}
21 %\background{.50 .50 .50}{.85 .85 .85}{0.5}
22 \background{.40 .48 .71}{.99 .99 .99}{0.5}
23
24 \newrgbcolor{si-yellow}{.6 .6 0}
25
26 % Groesse der einzelnen Spalten als Anteil der Gesamt-Textbreite
27 \renewcommand{\columnfrac}{.31}
28
29 % potential
30 \newcommand{\pot}{\mathcal{V}}
31
32 % header
33 \vspace{-18cm}
34 \begin{header}
35      \centerline{{\Huge \bfseries Molecular dynamics simulation
36                                   of defect formation and precipitation}}
37      \vspace*{0.5cm}
38      \centerline{{\Huge \bfseries in heavily carbon doped silicon}}
39      \vspace*{1cm}
40      \centerline{\huge\textsc {\underline{F.~Zirkelbach}$^1$,
41                                J.~K.~N.~Lindner$^1$,
42                                K.~Nordlund$^2$, B.~Stritzker$^1$}}
43      \vspace*{1cm}
44      \begin{center}
45        \begin{minipage}{.065\textwidth}
46          \includegraphics[height=5.5cm]{uni-logo.eps}
47        \end{minipage}
48        \begin{minipage}{.57\textwidth}
49          \centerline{\Large $^1$ Experimentalphysik IV, Institut f\"ur Physik,
50                             Universit\"at Augsburg,}
51          \centerline{\Large Universit\"atsstr. 1,  D-86135 Augsburg, Germany}
52        \end{minipage}
53        \begin{minipage} {.065\textwidth}
54           \includegraphics[height=5cm]{Lehrstuhl-Logo.eps}
55        \end{minipage}
56      \end{center}
57      \begin{center}
58        \begin{minipage}{.20\textwidth}
59          \includegraphics[height=5.5cm]{logo_eng.eps}
60        \end{minipage}
61        \begin{minipage}{.50\textwidth}
62          \centerline{\Large $^2$ Accelerator Laboratory,
63                             Department of Physical Sciences,
64                             University of Helsinki,}
65          \centerline{\Large Pietari Kalmink. 2, 00014 Helsinki, Finland}
66        \end{minipage}
67      \end{center}
68 \end{header}
69
70 \begin{poster}
71
72 %\vspace{-6cm}
73 \begin{pcolumn}
74   \begin{pbox}
75     \section*{Motivation}
76     {\bf Reasons for understanding the 3C-SiC precipitation process}
77     \begin{itemize}
78       \item Significant technological progress
79             in 3C-SiC wide band gap semiconductor thin film formation [1].
80       \item New perspectives for processes relying upon prevention of
81             precipitation, e.g. fabrication of strained pseudomorphic
82             $\text{Si}_{1-y}\text{C}_y$ heterostructures [2].
83     \end{itemize}
84     {\tiny
85      [1] J. H. Edgar, J. Mater. Res. 7 (1992) 235.}\\
86     {\tiny
87      [2] J. W. Strane, S. R. Lee, H. J. Stein, S. T. Picraux,
88          J. K. Watanabe, J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 79 (1996) 637.}
89   \end{pbox}
90   \begin{pbox}
91     \section*{Crystalline silicon and cubic silicon carbide}
92     {\bf Lattice types and unit cells:}
93     \begin{itemize}
94       \item Crystalline silicon (c-Si) has diamond structure\\
95             $\Rightarrow {\color{si-yellow}\bullet}$ and
96             ${\color{gray}\bullet}$ are Si atoms
97       \item Cubic silicon carbide (3C-SiC) has zincblende structure\\
98             $\Rightarrow {\color{si-yellow}\bullet}$ are Si atoms,
99             ${\color{gray}\bullet}$ are C atoms
100     \end{itemize}
101     \begin{minipage}{15cm}
102     {\bf Lattice constants:}
103     \[
104     4a_{\text{c-Si}}\approx5a_{\text{3C-SiC}}
105     \]
106     {\bf Silicon density:}
107     \[
108     \frac{n_{\text{3C-SiC}}}{n_{\text{c-Si}}}=97,66\,\%
109     \]
110     \end{minipage}
111     \begin{minipage}{10cm}
112       \includegraphics[width=10cm]{sic_unit_cell.eps}
113     \end{minipage}
114   \end{pbox}
115   \begin{pbox}
116     \section*{Supposed Si to 3C-SiC conversion}
117     {\bf Schematic of the conversion mechanism}\\\\
118     \begin{minipage}{7.8cm}
119     \includegraphics[width=7.7cm]{sic_prec_seq_01.eps}
120     \end{minipage}
121     \hspace{0.6cm}
122     \begin{minipage}{7.8cm}
123     \includegraphics[width=7.7cm]{sic_prec_seq_02.eps}
124     \end{minipage}
125     \hspace{0.6cm}
126     \begin{minipage}{7.8cm}
127     \includegraphics[width=7.7cm]{sic_prec_seq_03.eps}
128     \end{minipage}
129     \vspace{1cm}
130     \begin{enumerate}
131       \item Formation of C-Si dumbbells on regular c-Si lattice sites
132       \item Agglomeration into large clusters (embryos)
133       \item Precipitation of 3C-SiC + Creation of interstitials
134     \end{enumerate}
135     \vspace{1cm}
136     {\bf Experimental observations} [3]
137     \begin{itemize}
138       \item Minimal diameter of precipitation: 2 - 4 nm
139       \item Equal orientation of c-Si and 3C-SiC (hkl)-planes
140     \end{itemize}
141     {\tiny
142      [3] J. K. N. Lindner, Appl. Phys. A 77 (2003) 27.
143     }
144   \end{pbox}
145   \begin{pbox}
146     \section*{Simulation details}
147     {\bf MD basics:}
148     \begin{itemize}
149       \item Microscopic description of N particles
150       \item Analytical interaction potential
151       \item Propagation rule in 6N-dim. phase space:
152             Hamilton's equations of motion
153       \item Observables obtained by time or ensemble averages
154     \end{itemize}
155     {\bf Application details:}\\[0.5cm]
156     \begin{minipage}{17cm}
157     \begin{itemize}
158       \item Integrator: Velocity Verlet, timestep: 1 fs
159       \item Ensemble: isothermal-isobaric NPT [4]
160             \begin{itemize}
161               \item Berendsen thermostat:
162                     $\tau_{\text{T}}=100\text{ fs}$
163               \item Brendsen barostat:\\
164                     $\tau_{\text{P}}=100\text{ fs}$,
165                     $\beta^{-1}=100\text{ GPa}$
166             \end{itemize}
167       \item Potential: Tersoff-like bond order potential [5]
168       \[
169       E = \frac{1}{2} \sum_{i \neq j} \pot_{ij}, \quad
170       \pot_{ij} = f_C(r_{ij}) \left[ f_R(r_{ij}) + b_{ij} f_A(r_{ij}) \right]
171       \]
172     \end{itemize}
173     \end{minipage}
174     \begin{minipage}{9cm}
175       \includegraphics[width=9cm]{tersoff_angle.eps}
176     \end{minipage}\\[1cm]
177     {\tiny
178      [4] L. Verlet, Phys. Rev. 159 (1967) 98.}\\
179     {\tiny
180      [5] P. Erhart and K. Albe, Phys. Rev. B 71 (2005) 35211.}
181   \end{pbox}
182
183 \end{pcolumn}
184 \begin{pcolumn}
185
186   \begin{pbox}
187     \section*{Interstitial configurations}
188     {\bf Simulation sequence:}\\
189
190 \begin{minipage}{15cm}
191 {\small
192  \begin{pspicture}(0,0)(14,14)
193   \rput(7,12.5){\rnode{init}{\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=green]{
194    \parbox{14cm}{
195    \begin{itemize}
196     \item Initial configuration: $9\times9\times9$ unit cells Si
197     \item Periodic boundary conditions
198     \item $T=0\text{ K}$, $p=0\text{ bar}$
199    \end{itemize}
200   }}}}
201 \rput(7,6){\rnode{insert}{\psframebox{
202  \parbox{14cm}{
203   Insertion of C / Si atom:
204   \begin{itemize}
205    \item $(0,0,0)$ $\rightarrow$ {\color{red}tetrahedral}
206          (${\color{red}\triangleleft}$)
207    \item $(-1/8,-1/8,1/8)$ $\rightarrow$ {\color{green}hexagonal}
208          (${\color{green}\triangleright}$)
209    \item $(-1/8,-1/8,-1/4)$, $(-3/8,-3/8,-1/4)$\\
210          $\rightarrow$ {\color{magenta}110 dumbbell}
211          (${\color{magenta}\Box}$,$\circ$)
212    \item random positions (critical distance check)
213   \end{itemize}
214   }}}}
215   \rput(7,1.5){\rnode{cool}{\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=cyan]{
216    \parbox{7cm}{
217    Relaxation time: 2 ps
218   }}}}
219   \ncline[]{->}{init}{insert}
220   \ncline[]{->}{insert}{cool}
221  \end{pspicture}
222 }
223 \end{minipage}
224 \begin{minipage}{10cm}
225   \includegraphics[width=11cm]{unit_cell_s.eps}
226 \end{minipage}
227
228     {\bf Si self-interstitial results:}\\
229
230 {\small
231  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
232  \underline{Tetrahedral}\\
233  $E_f=3.41$ eV\\
234  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_tetra_0.eps}
235  \end{minipage}
236  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
237  \underline{110 dumbbell}\\
238  $E_f=4.39$ eV\\
239  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_dumbbell_0.eps}
240  \end{minipage}
241  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
242  \underline{Hexagonal}\\
243  $E_f^{\star}\approx4.48$ eV (unstable!)\\
244  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_hexa_0.eps}
245  \end{minipage}\\[1cm]
246
247  \underline{Random insertion}\\
248
249  \begin{minipage}{8.5cm}
250  $E_f=3.97$ eV\\
251  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_rand_397_0.eps}
252  \end{minipage}
253  \begin{minipage}{8.5cm}
254  $E_f=3.75$ eV\\
255  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_rand_375_0.eps}
256  \end{minipage}
257  \begin{minipage}{8.5cm}
258  $E_f=3.56$ eV\\
259  \includegraphics[width=8cm]{si_self_int_rand_356_0.eps}
260  \end{minipage}\\[1cm]
261 }
262
263     {\bf C in Si interstitial results:}\\
264
265 {\small
266  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
267  \underline{Tetrahedral}\\
268  $E_f=2.67$ eV\\
269  \includegraphics[width=8cm]{c_in_si_int_tetra_0.eps}
270  \end{minipage}
271  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
272  \underline{110 dumbbell}\\
273  $E_f=1.76$ eV\\
274  \includegraphics[width=8cm]{c_in_si_int_dumbbell_0.eps}
275  \end{minipage}
276  \begin{minipage}[t]{8.5cm}
277  \underline{Hexagonal}\\
278  $E_f^{\star}\approx5.6$ eV (unstable!)\\
279  \includegraphics[width=8cm]{c_in_si_int_hexa_0.eps}
280  \end{minipage}\\[1cm]
281 }
282 \begin{minipage}{17cm}
283 \underline{\flq100\frq{} dumbbell configuration}
284 \begin{itemize}
285   \item $E_f=0.47$ eV
286   \item Very often observed
287   \item Most energetically favorable configuration
288   \item Experimental evidence [6]
289 \end{itemize}
290 \end{minipage}
291 \begin{minipage}{8cm}
292 \includegraphics[width=8cm]{c_in_si_int_001db_0.eps}
293 \end{minipage}\\[1cm]
294 \begin{center}
295 \includegraphics[width=24cm]{100-c-si-db_s.eps}
296 \end{center}
297 {\tiny
298  [6] G. D. Watkins and K. L. Brower, Phys. Rev. Lett. 36 (1976) 1329.}
299
300   \end{pbox}
301
302 \end{pcolumn}
303 \begin{pcolumn}
304
305   \begin{pbox}
306     \section*{High C concentration simulations}
307
308     {\bf Simulation sequence:}\\
309
310 {\small
311  \begin{pspicture}(0,0)(30,13)
312   % nodes
313   \rput(7.5,11){\rnode{init}{\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=green]{
314    \parbox{15cm}{
315    \begin{itemize}
316     \item Initial configuration: $31\times31\times31$ unit cells Si
317     \item Periodic boundary conditions
318     \item $T=450\, ^{\circ}\textrm{C}$, $p=0\text{ bar}$
319     \item Equilibration of $E_{kin}$ and $E_{pot}$
320    \end{itemize}
321   }}}}
322   \rput(7.5,5){\rnode{insert}{\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=red]{
323    \parbox{15cm}{
324    Insertion of 6000 carbon atoms at constant\\
325    temperature into:
326    \begin{itemize}
327     \item Total simulation volume $V_1$
328     \item Volume of minimal 3C-SiC precipitation $V_2$
329     \item Volume of necessary amount of Si $V_3$
330    \end{itemize} 
331   }}}}
332   \rput(7.5,1){\rnode{cool}{\psframebox[fillstyle=solid,fillcolor=cyan]{
333    \parbox{8cm}{
334    Cooling down to $20\, ^{\circ}\textrm{C}$
335   }}}}
336   \ncline[]{->}{init}{insert}
337   \ncline[]{->}{insert}{cool}
338   \psframe[fillstyle=solid,fillcolor=white](16,2.6)(26,12.6)
339   \psframe[fillstyle=solid,fillcolor=lightgray](18,4.6)(24,10.6)
340   \psframe[fillstyle=solid,fillcolor=gray](18.5,5.1)(23.5,10.1)
341   \rput(9,5.4){\pnode{in1}}
342   \rput(15,5.4){\pnode{in-1}}
343   \rput(17,7.2){\pnode{ins1}}
344   \rput(14,4.2){\pnode{in2}}
345   \rput(15,4.2){\pnode{in-2}}
346   \rput(18.25,6.88){\pnode{ins2}}
347   \rput(12,3.0){\pnode{in3}}
348   \rput(15,3.0){\pnode{in-3}}
349   \rput(21,7.6){\pnode{ins3}}
350   \ncline[linewidth=0.05]{->}{in-1}{ins1}
351   \ncline[linewidth=0.05]{->}{in-2}{ins2}
352   \ncline[linewidth=0.05]{->}{in-3}{ins3}
353   \ncline[linewidth=0.05]{-}{in1}{in-1}
354   \ncline[linewidth=0.05]{-}{in2}{in-2}
355   \ncline[linewidth=0.05]{-}{in3}{in-3}
356  \end{pspicture}
357 }
358     {\bf Results:}\\
359     Si-C and C-C pair correlation function:\\
360     \hspace*{1.3cm} \includegraphics[width=22cm]{pc_si-c_c-c.eps}
361     \begin{center}
362     {\tiny
363      {\bf Dashed vertical lines:} Further calculated C-Si distances 
364      in the \flq100\frq{} C-Si dumbbell interstitial configuration}\\[0.5cm]
365     \end{center}
366     Si-Si pair correlation function:\\
367     \hspace*{1.3cm} \includegraphics[width=22cm]{pc_si-si.eps}\\
368     {\bf Interpretation:}
369     {\small
370     \begin{itemize}
371       \item C-C peak at 0.15 nm similar to next neighbour distance of graphite
372             or diamond\\
373             $\Rightarrow$ Formation of strong C-C bonds
374                           (almost only for high C concentrations)
375       \item C-C peak at 0.31 nm equals C-C distance in 3C-SiC\\
376             (due to concatenated, differently oriented
377              \flq100\frq{} dumbbell interstitials)
378       \item Si-Si shows non-zero g(r) values around 0.31 nm
379             and a decrease at regular distances\\
380             (no clear peak,
381              interval of enhanced g(r) corresponds to C-C peak width)
382       \item Si-C peak at 0.19 nm similar to next neighbour distance in 3C-SiC
383       \item Low C concentration (i.e. $V_1$):
384             The \flq100\frq{} dumbbell configuration
385             \begin{itemize}
386               \item is identified to stretch the Si-Si next neighbour distance
387                     to 0.3 nm
388               \item is identified to contribute to the Si-C peak at 0.19 nm
389               \item explains further C-Si peaks (dashed vertical lines)
390             \end{itemize}
391             $\Rightarrow$ C atoms are first elements arranged at distances
392                           expected for 3C-SiC\\
393             $\Rightarrow$ C atoms pull the Si atoms into the right
394                           configuration at a later stage
395       \item High C concentration (i.e. $V_2$ and $V_3$):
396             \begin{itemize}
397               \item High amount of damage introduced into the system
398               \item Short range order observed but almost no long range order
399             \end{itemize}
400             $\Rightarrow$ Start of amorphous SiC-like phase formation\\
401             $\Rightarrow$ Higher temperatures required for proper SiC formation
402     \end{itemize}
403     }
404
405   \end{pbox}
406   %\vspace{-0.5cm}
407   \begin{pbox}
408     \section*{Conclusion}
409     \begin{itemize}
410       \item \flq100\frq{} C-Si dumbbell interstitial configuration is observed
411             to be the energetically most favorable configuration
412       \item For low C concentrations C atoms introduced as differently
413             oriented C-Si dumbbells in c-Si are properly arranged
414             for 3C-SiC formation
415       \item For high C concentrations an amorphous SiC-like phase is observed
416             which suggests higher temperature simulation runs for proper
417             3C-SiC formation
418     \end{itemize}
419   \end{pbox}
420
421 \end{pcolumn}
422 \end{poster}
423 \end{document}
424