safety commit + new sic prec sequence figures
[lectures/latex.git] / posic / talks / dpg_2008.tex
1 \pdfoutput=0
2 \documentclass[landscape,semhelv]{seminar}
3
4 \usepackage{verbatim}
5 \usepackage[german]{babel}
6 \usepackage[latin1]{inputenc}
7 \usepackage[T1]{fontenc}
8 \usepackage{amsmath}
9 \usepackage{ae}
10
11 \usepackage{calc}               % Simple computations with LaTeX variables
12 \usepackage{caption}            % Improved captions
13 \usepackage{fancybox}           % To have several backgrounds
14
15 \usepackage{fancyhdr}           % Headers and footers definitions
16 \usepackage{fancyvrb}           % Fancy verbatim environments
17 \usepackage{pstricks}           % PSTricks with the standard color package
18
19 \usepackage{graphicx}
20 \graphicspath{{../img/}}
21
22 \usepackage{semcolor}
23 \usepackage{semlayer}           % Seminar overlays
24 \usepackage{slidesec}           % Seminar sections and list of slides
25
26 \input{seminar.bug}             % Official bugs corrections
27 \input{seminar.bg2}             % Unofficial bugs corrections
28
29 \articlemag{1}
30
31 \special{landscape}
32
33 \begin{document}
34
35 \extraslideheight{10in}
36 \slideframe{plain}
37
38 % specify width and height
39 \slidewidth 27.7cm 
40 \slideheight 19.1cm 
41
42 % shift it into visual area properly
43 \def\slideleftmargin{3.3cm}
44 \def\slidetopmargin{0.0cm}
45
46 \newcommand{\ham}{\mathcal{H}}
47 \newcommand{\pot}{\mathcal{V}}
48 \newcommand{\foo}{\mathcal{U}}
49 \newcommand{\vir}{\mathcal{W}}
50
51 % topic
52
53 \begin{slide}
54 \begin{center}
55
56  \vspace{16pt}
57
58  {\LARGE\bf
59   Molecular dynamics simulation study\\
60   of the silicon carbide precipitation process
61  }
62
63  \vspace{24pt}
64
65  \textsc{\small \underline{F. Zirkelbach}$^1$, J. K. N. Lindner$^1$,
66          K. Nordlund$^2$, B. Stritzker$^1$}\\
67
68  \vspace{32pt}
69
70  \begin{minipage}{2.0cm}
71   \begin{center}
72   \includegraphics[height=1.6cm]{uni-logo.eps}
73   \end{center}
74  \end{minipage}
75  \begin{minipage}{8.0cm}
76   \begin{center}
77    {\footnotesize
78     $^1$ Experimentalphysik IV, Institut f"ur Physik,\\
79          Universit"at Augsburg, Universit"atsstr. 1,\\
80          D-86135 Augsburg, Germany
81    }
82   \end{center}
83  \end{minipage}
84  \begin{minipage}{2.3cm}
85   \begin{center}
86   \includegraphics[height=1.5cm]{Lehrstuhl-Logo.eps}
87   \end{center}
88  \end{minipage}
89
90  \vspace{16pt}
91
92  \begin{minipage}{4.0cm}
93   \begin{center}
94   \includegraphics[height=1.6cm]{logo_eng.eps}
95   \end{center}
96  \end{minipage}
97  \begin{minipage}{8.0cm}
98   \begin{center}
99   {\footnotesize
100    $^2$ Accelerator Laboratory, Department of Physical Sciences,\\
101    University of Helsinki, Pietari Kalmink. 2,\\
102    00014 Helsinki, Finland
103   }
104   \end{center}
105  \end{minipage}
106 \end{center}
107 \end{slide}
108
109 % contents
110
111 \begin{slide}
112
113  \begin{center}
114  {\bf
115   Molecular dynamics simulation study\\
116   of the silicon carbide precipitation process
117  }
118  \end{center}
119
120  \vspace{16pt}
121
122  {\large\bf
123   Outline
124  }
125
126  \vspace{16pt}
127
128  \begin{itemize}
129   \item Motivation / Introduction
130   \item Molecular dynamics simulation details
131         \begin{itemize}
132          \item Integrator, potential, ensemble control
133          \item Simulation sequence
134         \end{itemize}
135   \item Results gained by simulation
136         \begin{itemize}
137          \item Interstitials in silicon
138          \item $SiC$-precipitation experiments
139         \end{itemize}
140   \item Conclusion / Outlook
141  \end{itemize}
142 \end{slide}
143
144 % start of contents
145
146 \begin{slide}
147
148  {\large\bf
149   Motivation / Introduction
150  }
151
152  \small
153  \vspace{6pt}
154
155  Supposed mechanism of the conversion of heavily carbon doped Si into SiC:
156
157  \vspace{8pt}
158
159  \begin{minipage}{3.8cm}
160  \includegraphics[width=3.7cm]{sic_prec_seq_01.eps}
161  \end{minipage}
162  \hspace{0.6cm}
163  \begin{minipage}{3.8cm}
164  \includegraphics[width=3.7cm]{sic_prec_seq_02.eps}
165  \end{minipage}
166  \hspace{0.6cm}
167  \begin{minipage}{3.8cm}
168  \includegraphics[width=3.7cm]{sic_prec_seq_03.eps}
169  \end{minipage}
170
171  \vspace{8pt}
172
173  \begin{minipage}{3.8cm}
174  Formation of C-Si dumbbells on regular c-Si lattice sites
175  \end{minipage}
176  \hspace{0.6cm}
177  \begin{minipage}{3.8cm}
178  Agglomeration into large clusters (embryos)\\
179  \end{minipage}
180  \hspace{0.6cm}
181  \begin{minipage}{3.8cm}
182  Precipitation of 3C-SiC + Creation of interstitials\\
183  \end{minipage}
184
185  \begin{center}
186  \[5a_{SiC}=4a_{Si} \quad \Rightarrow \quad
187    \frac{n_{SiC}}{n_{Si}}=\frac{\frac{4}{a_{SiC}^3}}{\frac{8}{a_{Si}^3}}=
188                           \frac{5^3}{2\cdot4^3}=97,66\%
189  \]
190  \end{center}
191
192  Experimentally observed minimal diameter of precipitation: 4 - 5 nm
193
194 \end{slide}
195
196 \begin{slide}
197
198  {\large\bf
199   Simulation details
200  }
201
202  MD basics:
203  \begin{itemize}
204   \item Microscopic description of N particle system
205   \item Analytical interaction potential
206   \item Hamilton's equations of motion as propagation rule\\
207         in 6N-dimemnsional phase space
208   \item Observables obtained by time average
209  \end{itemize}
210
211  \vspace{4pt}
212
213  Application details:
214  \begin{itemize}
215   \item Integrator: velocity verlet, timestep: $1\, fs$
216   \item Ensemble control: NVT, Berendsen thermostat, $\tau=100.0$
217   \item Potential: Tersoff-like bond order potential\\
218         \[
219         E = \frac{1}{2} \sum_{i \neq j} \pot_{ij}, \quad
220         \pot_{ij} = f_C(r_{ij}) \left[ f_R(r_{ij}) + b_{ij} f_A(r_{ij}) \right]
221         \]
222         \begin{center}
223         {\scriptsize P. Erhart und K. Albe. Phys. Rev. B 71 (2005) 035211}
224         \end{center}
225  \end{itemize}
226
227 \end{slide}
228
229 \begin{slide}
230
231  {\large\bf
232   Simulation details
233  }
234
235  Interstitial experiments:
236  \begin{itemize}
237   \item Initial configuration: $9\times9\times9$ unit cells Si
238   \item Periodic boundary conditions
239   \item $T=0 \, K$
240   \item Insertion of Si / C atom at
241         \begin{itemize}
242          \item $(0,0,0)$ (tetrahedral)
243          \item $(-1/8,-1/8,1/8)$ (hexagonal)
244          \item $(-1/8,-1/8,-1/4)$, $(-1/4,-1/4,-1/4)$ (110 dumbbell)
245          \item random positions (critical distance check)
246         \end{itemize}
247   \item Relaxation time: $2\, ps$
248  \end{itemize}
249
250 \end{slide}
251
252 \begin{slide}
253
254  {\large\bf
255   Simulation details
256  }
257
258  SiC precipitation experiments:
259  \begin{itemize}
260   \item Initial configuration: $31\times31\times31$ unit cells Si
261   \item Periodic boundary conditions
262   \item $T=450\, ^{\circ}C$
263   \item Steady state time: $600\, fs$
264   \item C insertion steps:
265         \begin{itemize}
266          \item If $T=450\pm 1\, ^{\circ}C$:\\
267                Insertion of 10 atoms at random positions within $V_{ins}$
268          \item Otherwise: Annealing for another $100\, fs$
269         \end{itemize}
270   \item Annealing: ($T_a: 450\rightarrow 20 \, ^{\circ}C$)
271         \begin{itemize}
272          \item If $T=T_a$: Decrease $T_a$ by $1\, ^{\circ}C$
273          \item Otherwise: Annealing for another $50\, fs$
274         \end{itemize}
275  \end{itemize}
276
277  3 szenarios
278  \begin{itemize}
279   \item $V_ins$: total volume $V$
280   \item $V_ins$: 
281  \end{itemize}
282
283 \end{slide}
284
285 \begin{slide}
286
287  {\large\bf
288   Results
289  }
290
291 \end{slide}
292
293 \begin{slide}
294
295  {\large\bf
296   Results
297  }
298
299 \end{slide}
300
301 \begin{slide}
302
303  {\large\bf
304   Results
305  }
306
307 \end{slide}
308
309 \begin{slide}
310
311  {\large\bf
312   Results
313  }
314
315 \end{slide}
316
317 \begin{slide}
318
319  {\large\bf
320   Conclusion / Outlook
321  }
322
323 \end{slide}
324
325
326 \end{document}
327