added ion implantation intro

diff --git a/nlsop/talk/talk_german.tex b/nlsop/talk/talk_german.tex
index 2696795..4d82a2b 100644 (file)
--- a/nlsop/talk/talk_german.tex
+++ b/nlsop/talk/talk_german.tex
@@ -9,7 +9,7 @@
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+\graphicspath{{../img}}
 \usepackage{hyperref}
 
 \begin{document}
@@ -20,33 +20,57 @@
 \email{frank.zirkelbach@physik.uni-augsburg.de}
 \institution{Lehrstuhl f"ur Experiemntalphysik IV - Institut f"ur Physik\\Universit"at Augsburg}
 \slideCaption{Lehrstuhlseminar Experimentalphysik IV - 10.11.2005}
-\Logo{\includegraphics[height=1cm]{Lehrstuhl-Logo.eps}}
 
 \maketitle
 
-\overlays{8}{
 \begin{slide}{"Uberblick}
-\begin{itemstep}
+\begin{itemize}
   \item Motivation
-  \item Grundlagen der Ionenimplantation
+  \item Grundlagen
   \item Experimentelle Befunde
   \item Das Modell
   \item Die Simulation
   \item Ergebnisse
   \item Anwendung
   \item Zusammenfassung
+\end{itemize}
+\end{slide}
+
+\overlays{5}{
+\begin{slide}{Ionenimplantation}
+Funktionsweise:
+\begin{itemstep}
+ \item Ionisation des Atoms/Molek"uls
+ \item Beschleunigung im elektrischen Feld ($500 \, eV - 1 \, GeV$)
+ \item Bestrahlung eines Festk"orpers
 \end{itemstep}
+\FromSlide{4}{$\Rightarrow$ Modifikation oberfl"achennaher Schichten} \\
+\vspace{15pt}
+\FromSlide{5}{
+Industrielle Anwendung:\\
+Dotierung von Halbleiterkristallen}
 \end{slide}}
 
-\overlays{3}{
-\begin{slide}{Motivation}
-Ionenimplantation
-\begin{itemstep}
- \item exakte Dosierbarkeit
+\begin{slide}{Ionenimplantation}
+Vorteile
+\begin{itemize}
+ \item exakte Kontrollierbarkeit der implantierten Menge
  \item Reproduzierbarkeit
+ \item Homogenit"at
+ \item Schnelligkeit
  \item frei w"ahlbare Implantationstemperatur
-\end{itemstep}
-\end{slide}}
+ \item unabh"angig von der chemischen L"oslichkeitsgrenze
+\end{itemize}
+\end{slide}
+
+\begin{slide}{Selbstorganisation}
+\begin{tabular}{c}
+  \begin{tabular}{lr}
+    \includegraphics[width=4cm]{tr.eps} & text...
+  \end{tabular} \\
+Bolse: swift heavy ions
+\end{tabular}
+\end{slide}
 
 
 \end{document}